Academic Journal

The Physics of EUV Photoresist and How It Drives Strategies for Improvement

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: The Physics of EUV Photoresist and How It Drives Strategies for Improvement
المؤلفون: Karen Petrillo, Kyoungyong Cho, Neisser Mark
المصدر: Journal of Photopolymer Science and Technology. 2012, 25(1):87
قاعدة البيانات: J-STAGE
الوصف
تدمد:09149244
13496336
DOI:10.2494/photopolymer.25.87