Chemical Reaction Modeling on LPCVD Reactors : (1st Report, Numerical Simulation of Polysilicon Film Growth Rate Distribution)

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان:	Chemical Reaction Modeling on LPCVD Reactors : (1st Report, Numerical Simulation of Polysilicon Film Growth Rate Distribution) / LPCVD炉の反応モデリングに関する研究 : (第1報, Poly-Si成膜速度分布シミュレーション)
المؤلفون:	Hirohiko FUKUMOTO, Kazuto OKADA, 岡田和人, 福元裕彦
المصدر:	日本機械学会論文集 B編 / Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers Series B. 1997, 63(606):660
قاعدة البيانات:	J-STAGE

الوصف
تدمد:	03875016 18848346
DOI:	10.1299/kikaib.63.660