Academic Journal

Si-site Selective Removal from SiGe using Hydrogen Plasma via Ab-initio Calculations

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Si-site Selective Removal from SiGe using Hydrogen Plasma via Ab-initio Calculations / SiGe表面 で の 水素を用いた Si サイト選択 的脱離 の第一原理計算解析
المؤلفون: KENICHI KUWAHARA, MAKOTO MIURA, RYOKO SUGANO, YOHEI ISHII, 三浦 真, 桑原 謙一, 石井 洋平, 菅野 量子
المصدر: JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2021, :1461
قاعدة البيانات: J-STAGE
الوصف
تدمد:24367613
DOI:10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_1461