Academic Journal

Effect of Argon Plasma Treatment on Silicon Nitride Barrier films for OPV cells

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Effect of Argon Plasma Treatment on Silicon Nitride Barrier films for OPV cells
المؤلفون: Bernard Gefferoy, Denis Tondelier, Jean-Eric Bouree, Maria Fatima Guimaraes Cerqueira, Pedro Alpuim, Subimal Majee, Yvan Bonnassieux
المصدر: JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2013, :772
قاعدة البيانات: J-STAGE
الوصف
تدمد:24367613
DOI:10.11470/jsapmeeting.2013.2.0_772