Academic Journal

Low-Pressure MOCVD of Fe3O4 Epitaxial Thin Films, and Their Surface Reaction Process

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Low-Pressure MOCVD of Fe3O4 Epitaxial Thin Films, and Their Surface Reaction Process
المؤلفون: M. Gomi, T. Toba
المصدر: Journal of the Magnetics Society of Japan. 1998, 22(4_2):469
قاعدة البيانات: J-STAGE
الوصف
تدمد:02850192
18804004
DOI:10.3379/jmsjmag.22.469