| Contents Note: |
論文目録 / (0002.jp2) -- 目次 / (0004.jp2) -- 第1章 緒論 / p1 (0006.jp2) -- 1.1 本研究の背景と意義 / p1 (0006.jp2) -- 1.2 本研究の目的と概要 / p6 (0009.jp2) -- 第2章 C0₂レーザを用いたPVD法の原理と装置 / p8 (0010.jp2) -- 2.1 C0₂レーザPVD法の原理と特徴 / p8 (0010.jp2) -- 2.2 実験に用いたC0₂レーザ発振器とそのビーム特性 / p12 (0012.jp2) -- 2.3 本章のまとめ / p21 (0016.jp2) -- 第3章 レーザPVD法によるセラミック膜の形成 / p23 (0017.jp2) -- 3.1 レーザPVD法によるセラミック蒸着特性 / p23 (0017.jp2) -- 3.2 形成されたセラミック膜の特性評価 / p27 (0019.jp2) -- 3.3 C0₂レーザ光吸収体への応用 / p38 (0025.jp2) -- 3.4 本章のまとめ / p42 (0027.jp2) -- 第4章 Nイオン付加レーザPVD法によるcBN膜の形成 / p44 (0028.jp2) -- 4.1 cBN膜形成技術の開発現状 / p45 (0028.jp2) -- 4.2 イオン化機構を付加したレーザPVD装置 / p47 (0029.jp2) -- 4.3 Nイオン付加条件とcBN膜の形成 / p51 (0031.jp2) -- 4.4 cBN膜の密着性評価 / p62 (0037.jp2) -- 4.5 cBN膜の耐摩耗性評価 / p67 (0039.jp2) -- 4.6 cBN膜のガラス成形用金型への応用 / p69 (0040.jp2) -- 4.7 本章のまとめ / p71 (0041.jp2) -- 第5章 レーザ誘起放電レーザPVD法による硬質炭素膜の形成 / p73 (0042.jp2) -- 5.1 非晶質硬質炭素膜形成技術の開発現状 / p73 (0042.jp2) -- 5.2 レーザ誘起放電を併用したレーザPVD装置 / p74 (0043.jp2) -- 5.3 DLC膜の形成 / p75 (0043.jp2) -- 5.4 DLC膜の応用 / p82 (0047.jp2) -- 5.5 本章のまとめ / p89 (0050.jp2) -- 第6章 結論 / p91 (0051.jp2) -- 謝辞 / p94 (0053.jp2) -- 参考文献 / p95 (0053.jp2) |