التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
Advanced development methods for high-NA EUV lithography |
| المؤلفون: |
Dinh, Cong Que, Nagahara, Seiji, Kuwahara, Yuhei, Dauendorffer, Arnaud, Okada, Soichiro, Fujimoto, Seiji, Kawakami, Shinichiro, Shimura, Satoru, Muramatsu, Makoto, Cho, Kayoko, Liu, Xiang, Nafus, Kathleen, Carcasi, Michael A., Agarwal, Ankur, Somervell, Mark H., Huli, Lior, Kato, Kanzo, Kocsis, Michael, De Schepper, Peter, Meyers, Stephen T., McQuade, Lauren, Kasahara, Kazuki, Garcia Santaclara, Jara, Hoefnagels, Rik, Anderson, Chris, Naulleau, Patrick |
| المساهمون: |
Guerrero, Douglas, Amblard, Gilles R. |
| المصدر: |
Advances in Patterning Materials and Processes XL |
| بيانات النشر: |
SPIE |
| سنة النشر: |
2023 |
| نوع الوثيقة: |
conference object |
| اللغة: |
unknown |
| DOI: |
10.1117/12.2655928 |
| الاتاحة: |
http://dx.doi.org/10.1117/12.2655928 |
| رقم الانضمام: |
edsbas.CE991E33 |
| قاعدة البيانات: |
BASE |