Report
Ecsel JU project: TAPES3 - Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik : Schlussbericht : Projekteinzelantrag: Untersuchungen zur Masken Infrastruktur für die nächste Generation der EUV Technologie : Laufzeit: 01.10.2018-30.09.2021 ... : ECSEL Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology (SeNaTe); Teilvorhaben: Entwicklung von Prozessen zur Reduzierung von Defekten für die 7nm Maskentechnologie ...
| العنوان: | Ecsel JU project: TAPES3 - Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik : Schlussbericht : Projekteinzelantrag: Untersuchungen zur Masken Infrastruktur für die nächste Generation der EUV Technologie : Laufzeit: 01.10.2018-30.09.2021 ... : ECSEL Verbundprojekt: Seven Nanometer Technology (SeNaTe); Teilvorhaben: Entwicklung von Prozessen zur Reduzierung von Defekten für die 7nm Maskentechnologie ... |
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| المؤلفون: | Bender, Markus |
| بيانات النشر: | Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG |
| سنة النشر: | 2022 |
| المجموعة: | DataCite Metadata Store (German National Library of Science and Technology) |
| مصطلحات موضوعية: | Maske Halbleitertechnologie, Wafer, Extremes Ultraviolett, Mikroelektronik, EUV-Lithografie, Halbleitertechnologie, Electrical engineering |
| الوصف: | https://creativecommons.org/licenses/by-nd/3.0/de/ ... : Illustrationen, Diagramme ... |
| نوع الوثيقة: | report |
| وصف الملف: | application/pdf |
| اللغة: | German |
| DOI: | 10.2314/kxp:1843691477 |
| الاتاحة: | https://dx.doi.org/10.2314/kxp:1843691477 https://www.tib.eu/suchen/id/TIBKAT:1843691477 |
| Rights: | Open Access ; https://creativecommons.org/licenses/by-nd/3.0/de/ |
| رقم الانضمام: | edsbas.A50ED99E |
| قاعدة البيانات: | BASE |
| DOI: | 10.2314/kxp:1843691477 |
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