التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
100-nm generation contact patterning by low temperature 193-nm resist reflow process |
| المؤلفون: |
Van Driessche, Veerle, Lucas, Kevin, Van Roey, Frieda, Grozev, Grozdan, Tzviatkov, Plamen |
| المساهمون: |
Fedynyshyn, Theodore H. |
| المصدر: |
SPIE Proceedings ; Advances in Resist Technology and Processing XIX ; ISSN 0277-786X |
| بيانات النشر: |
SPIE |
| سنة النشر: |
2002 |
| نوع الوثيقة: |
conference object |
| اللغة: |
unknown |
| DOI: |
10.1117/12.474204 |
| الاتاحة: |
http://dx.doi.org/10.1117/12.474204 |
| رقم الانضمام: |
edsbas.99FB7958 |
| قاعدة البيانات: |
BASE |