التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
Recent advances in EUV patterning in preparation towards high-NA EUV |
| المؤلفون: |
Nagahara, Seiji, Dauendorffer, Arnaud, Thiam, Arame, Liu, Xiang, Kuwahara, Yuhei, Dinh, Cong Que, Okada, Soichiro, Kawakami, Shinichiro, Genjima, Hisashi, Nagamine, Noriaki, Muramatsu, Makoto, Shimura, Satoru, Tsuboi, Atsushi, Nafus, Kathleen, Feurprier, Yannick, Demand, Marc, Ramaneti, Rajesh, Foubert, Philippe, De Simone, Danilo, Vandenberphe, Geert |
| المساهمون: |
Guerrero, Douglas, Amblard, Gilles R. |
| المصدر: |
Advances in Patterning Materials and Processes XL |
| بيانات النشر: |
SPIE |
| سنة النشر: |
2023 |
| نوع الوثيقة: |
conference object |
| اللغة: |
unknown |
| DOI: |
10.1117/12.2657432 |
| الاتاحة: |
http://dx.doi.org/10.1117/12.2657432 |
| رقم الانضمام: |
edsbas.95869DB4 |
| قاعدة البيانات: |
BASE |