Conference
Study on electrical characteristics of HfO 2 treated by Nf 3 plasma
| العنوان: | Study on electrical characteristics of HfO 2 treated by Nf 3 plasma |
|---|---|
| المؤلفون: | Lee, J.C., Lee, S.J., Zulkarnain, Kim, Y.P., Kang, S.B., Choi, S.Y., Roh, Y. |
| المصدر: | 2011 Abstracts IEEE International Conference on Plasma Science ; page 1-1 |
| بيانات النشر: | IEEE |
| سنة النشر: | 2011 |
| نوع الوثيقة: | conference object |
| اللغة: | unknown |
| DOI: | 10.1109/plasma.2011.5993137 |
| الاتاحة: | http://dx.doi.org/10.1109/plasma.2011.5993137 http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/5978848/5992877/05993137.pdf?arnumber=5993137 |
| رقم الانضمام: | edsbas.76CDBFAF |
| قاعدة البيانات: | BASE |
| DOI: | 10.1109/plasma.2011.5993137 |
|---|