Academic Journal
in
| العنوان: | in |
|---|---|
| المؤلفون: | M. Claes, V. Paraschiv, S. Beckx, M. Dem, W. Deweerd, S. Garaud, H. Kraus, R. Vos, J. Snow, W. Boullart, S. De Gendt |
| المساهمون: | The Pennsylvania State University CiteSeerX Archives |
| المصدر: | http://www.scientific.net/SSP.103-104.93.pdf. |
| المجموعة: | CiteSeerX |
| مصطلحات موضوعية: | high-k, metal gate, selective wet etching, dry etch residue removal |
| الوصف: | wet removal of Hf-based layers and post-dry etch residues |
| نوع الوثيقة: | text |
| وصف الملف: | application/pdf |
| اللغة: | English |
| Relation: | http://citeseerx.ist.psu.edu/viewdoc/summary?doi=10.1.1.698.8395; http://www.scientific.net/SSP.103-104.93.pdf |
| الاتاحة: | http://citeseerx.ist.psu.edu/viewdoc/summary?doi=10.1.1.698.8395 http://www.scientific.net/SSP.103-104.93.pdf |
| Rights: | Metadata may be used without restrictions as long as the oai identifier remains attached to it. |
| رقم الانضمام: | edsbas.76BAFFAF |
| قاعدة البيانات: | BASE |
| الوصف غير متاح. |