Conference
Design-Data Based Inspection Of Photomasks And Reticles
| العنوان: | Design-Data Based Inspection Of Photomasks And Reticles |
|---|---|
| المؤلفون: | Yabumoto, Seiichi, Arai, Tetsuyuki, Fujimori, Yoshihiko, Azuma, Toru |
| المساهمون: | Stover, Harry L. |
| المصدر: | SPIE Proceedings ; Optical Microlithography V ; ISSN 0277-786X |
| بيانات النشر: | SPIE |
| سنة النشر: | 1986 |
| نوع الوثيقة: | conference object |
| اللغة: | unknown |
| DOI: | 10.1117/12.963713 |
| الاتاحة: | http://dx.doi.org/10.1117/12.963713 http://proceedings.spiedigitallibrary.org/proceeding.aspx?doi=10.1117/12.963713 |
| رقم الانضمام: | edsbas.4661D86 |
| قاعدة البيانات: | BASE |
| DOI: | 10.1117/12.963713 |
|---|