التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
Measurement sampling frequency impact on determining magnitude of pattern placement errors on photomasks |
| المؤلفون: |
Whittey, J., Laske, F., Roeth, K.-D., McCormack, J., Adam, D., Bender, J., Berglund, C. N., Takac, M., Chou, Seurien |
| المساهمون: |
Zurbrick, Larry S., Montgomery, M. Warren |
| المصدر: |
SPIE Proceedings ; Photomask Technology 2009 ; ISSN 0277-786X |
| بيانات النشر: |
SPIE |
| سنة النشر: |
2009 |
| نوع الوثيقة: |
conference object |
| اللغة: |
unknown |
| DOI: |
10.1117/12.833495 |
| الاتاحة: |
http://dx.doi.org/10.1117/12.833495 |
| رقم الانضمام: |
edsbas.2426D037 |
| قاعدة البيانات: |
BASE |