التفاصيل البيبلوغرافية
| العنوان: |
Impact of ambient atmosphere on plasma-damaged porous low-k characterization |
| المؤلفون: |
Darnon, Maxime, Chevolleau, T., David, T., Posseme, N., Bouyssou, R., Hurand, R., Joubert, O., Licitra, C., Rochat, N., Bailly, F., Verove, C. |
| المساهمون: |
Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES) |
| المصدر: |
IEEE International Interconnect Technology Conference / Materials for Advanced Metallization ; https://hal.science/hal-00647635 ; IEEE International Interconnect Technology Conference / Materials for Advanced Metallization, May 2011, Dresde, Germany |
| بيانات النشر: |
CCSD |
| سنة النشر: |
2011 |
| المجموعة: |
Université Grenoble Alpes: HAL |
| جغرافية الموضوع: |
Dresde, Germany |
| الوصف: |
International audience |
| نوع الوثيقة: |
conference object |
| اللغة: |
English |
| الاتاحة: |
https://hal.science/hal-00647635 |
| رقم الانضمام: |
edsbas.23E09113 |
| قاعدة البيانات: |
BASE |