التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: |
Lithography performance improvement of MOR by underlayers |
المؤلفون: |
Li, Si, Lu, Xinlin, Grannemann, Stephen, Sweat, Daniel, Brakensiek, Kelsey E., Lu, Pengtao, Lowes, Joyce A., Krishnamurthy, Vandana, Van Driessche, Veerle, Guerrero, Douglas |
المساهمون: |
Guerrero, Douglas, Amblard, Gilles R. |
المصدر: |
Advances in Patterning Materials and Processes XLI |
بيانات النشر: |
SPIE |
سنة النشر: |
2024 |
نوع الوثيقة: |
conference object |
اللغة: |
unknown |
DOI: |
10.1117/12.3010887 |
الاتاحة: |
http://dx.doi.org/10.1117/12.3010887 |
رقم الانضمام: |
edsbas.177B3F44 |
قاعدة البيانات: |
BASE |