Lithography performance improvement of MOR by underlayers

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Lithography performance improvement of MOR by underlayers
المؤلفون: Li, Si, Lu, Xinlin, Grannemann, Stephen, Sweat, Daniel, Brakensiek, Kelsey E., Lu, Pengtao, Lowes, Joyce A., Krishnamurthy, Vandana, Van Driessche, Veerle, Guerrero, Douglas
المساهمون: Guerrero, Douglas, Amblard, Gilles R.
المصدر: Advances in Patterning Materials and Processes XLI
بيانات النشر: SPIE
سنة النشر: 2024
نوع الوثيقة: conference object
اللغة: unknown
DOI: 10.1117/12.3010887
الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1117/12.3010887
رقم الانضمام: edsbas.177B3F44
قاعدة البيانات: BASE