يعرض 1 - 20 نتائج من 90 نتيجة بحث عن '"surface electron states"', وقت الاستعلام: 0.53s تنقيح النتائج
  1. 1
    Academic Journal
  2. 2
    Academic Journal
  3. 3
    Academic Journal
  4. 4
    Academic Journal

    المصدر: Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering; № 2 (2014); 104-108 ; Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники; № 2 (2014); 104-108 ; 2413-6387 ; 1609-3577 ; 10.17073/1609-3577-2014-2

    وصف الملف: application/pdf

    Relation: https://met.misis.ru/jour/article/view/129/122; Киреев, В. Ю. Введение в технологии микроэлектроники и нанотехнологии / В. Ю. Киреев. − М. : ФГУП «ЦНИИХМ», 2008. – 428 с.; Броудай, И. Физические основы микротехнологии / И. Броудай, Дж. Мерей − М. : Мир, 1985. − 496 с.; Ковалев,А.Н.Современныенаправленияипроблемысоздания полевых транзисторов на AlGa N/GaN−гетероструктурах / А. Н. Ковалев // Изв. вузов. Материалы электрон. техники. − 2002. − No 2. − С. 4—15.; Орликовский, А. А. Диагностика in situ плазменных технологических процессов микроэлектроники: современное состояние и ближайшие перспективы / А. А. Орликовский // Микроэлектроника. − 2001. − Т. 30. − No 5. − С. 323—344.; Коронкевич,В.П.Современныелазерныеинтерферометры / В. П. Коронкевич, В. А. Ханов. − М. : Наука, 1985. − 180 с.; Митрофанов, Е. А. Масс−спектрометрические методы контроля технологических процессов травления и формирования пленок / Е. А. Митрофанов, Ю. П. Макшев // Вакуумная техника и технология. − 1992. − Т. 11. − No 4. − С. 59—68.; Дудин, С. В. Диагностика плазменных технологических схем: методическое пособие по курсу С. В. Дудин, А. В. Зыков, В. И. Фареник. − Харьков : Харьковский нац. ун−т им. В. Н. Казина, 2009. − 32 с.; Курочка, А. С. Особенности электронной эмиссии для контроля процесса реактивного ионно−лучевого травления пленочных гетерокомпозиций: дисс. . канд. тех. наук / А. С. Курочка − М., 2013. − 149 с.; Петров,Н.Н.Эмиссионныепроцессыприионнойбомбардировке твердых тел / Н. Н. Петров // XXII конф. по эмиссионной электронике. – М., 1994. – Т. 1. – С. 9.; Сергиенко, А. А. Особенности кинетической ионно− электронной эмиссии с поверхности металлических и полупроводниковых пленочных материалов в процессе ионно−лучевого травления: дисс. . канд. техн. наук. / А. А. Сергиенко − М. : МИСиС, 2006. − 144 c.; Симакин, С. Б. Неразрушающий контроль процесса ионно−лучевого травления наноразмерных гетероструктур / С. Б. Симакин, А. А. Сергиенко, Г. Д. Кузнецов, А. С. Курочка, С. П. Курочка, Ю. А. Ходос, Н. А. Харламов, М. А. Пушкарев // Заводская лаборатория. − 2011. − Т. 77. − No 3. − С. 28—34.; Гольдберг, Ю. А. Омический контакт металл—полупроводник АIIIBV: методы создания и свойства / Ю. А. Гольдберг // ФТП. − 1994. − Т. 28, вып. 10. − С. 1681—1698.; Киселев,В.Ф.Основыфизикиповерхноститвердоготела / Киселев В. Ф., Козлов С. Н., Затеев А. В. − М. : МГУ, 1999. − 284 c. 14. Добрецов, Л. Н. Эмиссионная электроника / Л. Н. Добрецов, М. В. Гомоюнова − М. : Наука, 1996. − 564 c.; https://met.misis.ru/jour/article/view/129

  5. 5
    Academic Journal

    المساهمون: Tortello, M., Sola, A., Sharda, K., Paolucci, F., Nair, J. R., Gerbaldi, C., Daghero, D., Gonnelli, R. S.

    Relation: info:eu-repo/semantics/altIdentifier/wos/WOS:000315684700005; volume:269; firstpage:17; lastpage:22; numberofpages:6; journal:APPLIED SURFACE SCIENCE; http://hdl.handle.net/11384/110084; info:eu-repo/semantics/altIdentifier/scopus/2-s2.0-84875480582

  6. 6
  7. 7
    eBook

    المؤلفون: Fortov, V. E., author, Iakubov, I. T., author, Khrapak, A. G., author

    المصدر: Physics of Strongly Coupled Plasma, 2006, ill.

  8. 8
    Academic Journal
  9. 9
    Academic Journal
  10. 10
  11. 11
    Academic Journal
  12. 12
  13. 13
  14. 14
    Academic Journal
  15. 15
  16. 16
    Academic Journal
  17. 17
    Academic Journal
  18. 18
    Academic Journal
  19. 19
  20. 20