المؤلفون: Wang, Xiao (M. Sc.)

مصطلحات موضوعية: Dünne Schicht, Kombinatorische Materialforschung, Phasenumwandlung, 620 Ingenieurwissenschaften, Maschinenbau, Vanadiumdioxid, Reaktives Sputtern, ddc:620

وصف الملف: application/pdf

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::d9e2f8d8ddb17f6d7a5e40b429edf47b

المؤلفون: Horkel, Maximilian

المساهمون: Eisenmenger-Sittner, Christoph, Depla, Diederik

مصطلحات موضوعية: Kathodenzerstäubung, sputtern, magnetron, winkelverteilung, emmitierter, reaktiv, reaktives sputtern, komplexe oxide, sputtering, sputter deposition, angular distribut, emmited, reactiv, reactive sputtering, complex oxides

وصف الملف: 141 Bl.

Relation: https://resolver.obvsg.at/urn:nbn:at:at-ubtuw:1-42177; http://hdl.handle.net/20.500.12708/10293; AC07809291; urn:nbn:at:at-ubtuw:1-42177

الاتاحة: https://resolver.obvsg.at/urn:nbn:at:at-ubtuw:1-42177
https://hdl.handle.net/20.500.12708/10293

المؤلفون: Quirchmair, Martin

المساهمون: Eisenmenger-Sittner, Christoph

مصطلحات موضوعية: reaktives Sputtern, Magnetronsputtern, Sputtering, Mikroglaskugeln, Titandioxid, Anatas

وصف الملف: V, 83 Bl.

Relation: https://resolver.obvsg.at/urn:nbn:at:at-ubtuw:1-52318; http://hdl.handle.net/20.500.12708/9861; AC07813454; urn:nbn:at:at-ubtuw:1-52318

الاتاحة: https://resolver.obvsg.at/urn:nbn:at:at-ubtuw:1-52318
https://hdl.handle.net/20.500.12708/9861

المؤلفون: Dittmar, Georg, Erfurt, Darja, Galonska, Kristin, Hála, Matej, Klenk, Reiner, Körner, Stefan, Menner, Richard, Niesen, Thomas, Panckow, Andreas, Schorn, Dieter, Sittinger, Volker, Szyszka, Bernd

مصطلحات موضوعية: Zinkoxid, Transparent-leitendes Oxid, Magnetronsputtern, Reaktives Sputtern, Dünnschichtsolarzelle, CIGS-Solarzelle, Electrical engineering, Werkstoffe der Elektrotechnik, Energiedirektumwandler, elektrische Energiespeicher

وصف الملف: application/pdf

الاتاحة: https://dx.doi.org/10.2314/kxp:167030664x
https://www.tib.eu/suchen/id/TIBKAT:167030664X/

المؤلفون: Stöckel, Chris

Thesis Advisors: Hiller, Karla, Gerlach, Gerald, Technische Universität Chemnitz

مصطلحات موضوعية: info:eu-repo/classification/ddc/629, ddc:629, Aluminiumnitrid, Piezoelektrizität, Sputtern, Beschleunigungssensor, Röntgendiffraktometrie, Parameteridentifikation, MEMS, Dünnschicht-Technologie, Reaktives Sputtern, Laser-Doppler-Vibrometrie, Inertialsensorik, Finite Element Simulation, AlN, Power-Down-Interrupt-Generator, Aluminumnitrid, Piezoelectricity, Thin Film Technology, Reactive Sputtering, Laser-Doppler-Vibrometry, Inertial Sensor, X-Ray Diffraction, Finite Element Simulation, Parameter identification, AlN, MEMS, Power-Down-Interrupt-Generator

الاتاحة: https://monarch.qucosa.de/id/qucosa%3A20606
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A20606/attachment/ATT-0/
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A20606/attachment/ATT-1/

المؤلفون: Chamorro Coral, William Adolfo

المساهمون: Mücklich, Frank

مصطلحات موضوعية: epitaxial growth, Zinkoxid, reaktives Sputtern, ZnO-Au, reactive sputtering, Oberflächenplasmonresonanz, lokalisierte Oberflächenplasmonenresonanz (LSPR), localized surface plasmon resonance (LSPR), Nanokomposit, nanocomposites, Nanokomposite, Gold, ddc:620, Epitaxiewachstum, Sputtern

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::96abad87960fd8e68afb9db47b842b44

المؤلفون: Zschintzsch-Dias, Manuel

Thesis Advisors: von Borany, Johannes, Helm, Manfred, Meyer, Dirk C., Technische Universität Dresden

مصطلحات موضوعية: info:eu-repo/classification/ddc/530, ddc:530, Photovoltaik, Strukturaufklärung, Raman-Spektroskopie, Rutherford Back Scattering, XANES, Röntgendiffraktometrie, Nanokristall, Mehrschichtsystem, Germanium, Siliciumdioxid, Silicium, Reaktives Sputtern, Entmischung, Tunneleffekt, Durchstrahlungselektronenmikroskop, Quantenpunkt, Tempern, Photovoltaik, Strukturaufklärung, Raman-Spektroskopie, Rutherford Back Scattering, XANES, Röntgendiffraktometrie, Nanokristall, Mehrschichtsystem, Germanium, Siliciumdioxid, Silicium, Reaktives Sputtern, Entmischung, Tunneleffekt, Durchstrahlungselektronenmikroskop, Quantenpunkt, Tempern, annealing, elemental semiconductors, germanium, germanium compounds, nanofabrication, nanoparticle, nanocrystal, quantum dot, phase separation, Raman spectra, semiconductor growth, semiconductor thin films, silicon compounds, silica, reactive sputter deposition, superlattice, multilayer, transmission electron microscopy, tunnelling, x-ray scattering, photovoltaics, rutherford back scattering, XANES

الاتاحة: https://tud.qucosa.de/id/qucosa%3A25990
https://tud.qucosa.de/api/qucosa%3A25990/attachment/ATT-0/

المؤلفون: Harald Hetzner

المصدر: Harald Hetzner

مصطلحات موضوعية: ddc:670, Reaktives Sputtern, Sonderforschungsbereich Transregio 73, Department Maschinenbau, ddc:620, Kohlenstoffwerkstoff, Tribologie

وصف الملف: application/pdf

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::794895541941ebc8191791d122144117
https://opus4.kobv.de/opus4-fau/frontdoor/index/index/docId/5004

المؤلفون: Reeswinkel, Thomas

المساهمون: Schneider, Jochen

المصدر: Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University, Materials chemistry dissertation 2012,16 XIII, 77 S. : Ill., graph. Darst. (2012). = Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2012

مصطلحات موضوعية: Titannitrid, Beschichtung, Schutzschicht, Elastizität, Werkzeugbeschichtung, PVD-Verfahren, Schmierstoff, HPPMS, Stoffgesetz, Härte, Ingenieurwissenschaften, V2O5, Reaktives Sputtern, WO3, Anorganischer Werkstoff, Ab-initio-Rechnung, solid lubrication, Dünne Schicht, HiPIMS, Beschichten, Magnéli phase, Festschmierstoff, Abscheidung, Mechanische Eigenschaft, ddc:620, TiAlN, Sputtern

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______791::de78ab1e0f6de3822eeed7a5548c3773
https://publications.rwth-aachen.de/record/82813

المؤلفون: Hetzner, Harald

مصطلحات موضوعية: Tribologie, Kohlenstoffwerkstoff, Reaktives Sputtern, Sonderforschungsbereich Transregio 73, ddc:620, ddc:670

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://opus4.kobv.de/opus4-fau/frontdoor/index/index/docId/5004; urn:nbn:de:bvb:29-opus4-50046; https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bvb:29-opus4-50046; https://opus4.kobv.de/opus4-fau/files/5004/HaraldHetznerDissertation.pdf

الاتاحة: https://opus4.kobv.de/opus4-fau/frontdoor/index/index/docId/5004
https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bvb:29-opus4-50046
https://opus4.kobv.de/opus4-fau/files/5004/HaraldHetznerDissertation.pdf

المؤلفون: Köhl, Dominik

المساهمون: Wuttig, Matthias

المصدر: Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University 197 S. : Ill., graph. Darst. (2011). = Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011

مصطلحات موضوعية: Physik, IBAS, IBAD, reactive sputtering, Reaktives Sputtern, ionenstrahlgestütztes Sputtern, ion assisted deposition, zinc oxide, ddc:530, Beschichten, Strukturbildung, Sputtern, Zinkoxid

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______791::02961620287d157c027181bdbde89c0a
https://publications.rwth-aachen.de/record/64301

المؤلفون: Austgen, Michael

المساهمون: Wuttig, Matthias

المصدر: Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University V, 176, I-XXI, S. : Ill., graph. Darst. (2011). = Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011

مصطلحات موضوعية: Physik, co-sputtering, sputter yield amplification, Reaktives Sputtern, ddc:530, Serielles Co-Sputtern, Ratenverstärkung, serial co-sputtering, Co-Sputtern, Co-Dotierung, rate enhancement

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______791::71feedb036d33ade9d2df03dab19452a

المؤلفون: El-Hamshary, Azza Amin

المساهمون: Wuttig, Matthias

المصدر: Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University II, 176 S. : graph. Darst. (2011). = Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011

مصطلحات موضوعية: Physik, Titanium, Dünne Schicht, reactive sputtering, thin film, Reaktives Sputtern, ddc:530, Titan

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______791::c03d1431db455b8cfef0eb499cca4222

المؤلفون: van Ooyen, André

المساهمون: Mokwa, Wilfried

المصدر: Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University III, 191 S. : Ill., graph. Darst. (2010). = Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2010

مصطلحات موضوعية: Elektrostimulation, Ingenieurwissenschaften, iridium oxide, Mikroelektrode, Reaktives Sputtern, Elektrochemie, Stimulation, Messtechnik, pulse clamp technique, Pulse-Clamp Technik, Iridiumoxid, ddc:620, Iridium

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______791::f02dd3641ca5281f1c1c4dd892779b3e

المؤلفون: Güttler, Dominik

Thesis Advisors: Möller, W., Schneider, J. M.

مصطلحات موضوعية: info:eu-repo/classification/ddc/530, ddc:530, Reactive Sputtering, Magnetron Sputtering, Target Poisoning, Computer Simulation, Particle Energy, Energy Distribution, NRA, IBA, Titanium, TiN, Plasmamonitoring, Reaktives Sputtern, Magnetron Sputtern, Targetvergiftung, Modellierung, Energieverteilung, Teilchenenergien, Ionenstrahlanalyse, NRA, IBA, Titan, TiN, Plasmamonitoring

الاتاحة: https://tud.qucosa.de/id/qucosa%3A23651
https://tud.qucosa.de/api/qucosa%3A23651/attachment/ATT-0/

المؤلفون: Ruske, Florian

مصطلحات موضوعية: Dünnschichtsolarzelle Dünnschichtsolarzelle Silicium Transparent-leitendes Oxid Zinkoxid Reaktives Sputtern Magnetronsputtern

الاتاحة: http://d-nb.info/993460631/04

المؤلفون: Klages, C.-P., Thyen, R., Veyhl, R., Weber, A.

مصطلحات موضوعية: CrSi-Dünnschichtwiderstand, CrSi resistive thin films, elektrischer Widerstand, Flächenwiderstand, high ohmic precision resistor, hochohmiger Präzisionswiderstand, reactive sputtering, reaktives Sputtern, reproducibility, Reproduzierbarkeit, resistance scattering, resistivity, sheet resistance, TCR, temperature coefficient, Temperaturkoeffizient, Widerstandsstreuung

Time: 667

Relation: Werkstoffwoche 1996; Werkstoffwoche '96. Symposium 6: Werkstoff- und Verfahrenstechnik; https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/326188

الاتاحة: https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/326188

المؤلفون: Uslu, Fahri

المساهمون: Wuttig, Matthias

المصدر: Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University 186 S. : Ill., graph. Darst. (2008). = Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2008

مصطلحات موضوعية: Physik, Dünne Schicht, reactive sputtering, Durchstrahlungselektronenmikroskopie, x-ray diffraction, thin film, Reaktives Sputtern, transmission-electronmicroscopy, ddc:530, Röntgendiffraktometrie

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______791::dd3aae14212a52277e02513020ad5e91

المؤلفون: Pflug, Andreas.

مصطلحات موضوعية: Reaktives Sputtern. Magnetronsputtern. Simulation.

الاتاحة: http://deposit.d-nb.de/cgi-bin/dokserv?id=2938746&prov=M&dok_var=1&dok_ext=htm

المؤلفون: Hüpkes, Jürgen

المساهمون: Wuttig, Matthias

المصدر: Jülich : Forschungszentrum Jülich GmbH Zentralbibliothek, Verlag, Schriften des Forschungszentrums Jülich. Reihe Energietechnik / Energy Technology 52, X, 170 S. (2006). = RWTH Aachen, Diss., 2005
Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University, Schriften des Forschungszentrums Jülich : Reihe Energietechnik 52, XIV, 170 S. : Ill., graph. Darst. (2006). = Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2005

مصطلحات موضوعية: thin film solar cells, Ätzen, silicon, zinc oxide, Zinkoxid, Dünnschichtsolarzelle, Physik, reactive sputtering, Photovoltaik, Reaktives Sputtern, ZnO, Silicium, etching, ddc:530, Aluminium Dotierung, ddc:620, Sputtern

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::8951b7d05c0e9777718d16842f2254dd
https://juser.fz-juelich.de/record/55223