المؤلفون: Averina, Alexandra Ivanovna, Kashirin, Nikolay Vladimirovich, Sidorov, Ruslan Васильевич, Khodataeva, Tatiana S.

المصدر: Известия Саратовского университета. Новая серия: Серия Химия. Биология. Экология, Vol 24, Iss 4, Pp 402-414 (2024)

مصطلحات موضوعية: dielectric, conductor, plasma chemical etching, adhesion fi gures, surface potential, adsorption, Biology (General), QH301-705.5

وصف الملف: electronic resource

Relation: https://ichbe.sgu.ru/sites/ichbe.sgu.ru/files/text-pdf/2024/12/himiya_2024_4-402-414.pdf; https://doaj.org/toc/1816-9775; https://doaj.org/toc/2541-8971

URL الوصول: https://doaj.org/article/b5a501f7c6c749abbb02ec987049bc48

المؤلفون: A. D. Yunik, A. H. Shydlouski

المصدر: Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki, Vol 20, Iss 7, Pp 12-19 (2022)

مصطلحات موضوعية: plasma-chemical etching, inductively coupled plasma, laser interferometer, gallium nitride, heterostructure, high electron mobility transistor, Electronics, TK7800-8360

وصف الملف: electronic resource

Relation: https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/3495; https://doaj.org/toc/1729-7648

URL الوصول: https://doaj.org/article/ebe682b2eee348aabebf9fee41e6590f

المؤلفون: V. V. Emelyanov

المصدر: Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki, Vol 20, Iss 1, Pp 48-54 (2022)

مصطلحات موضوعية: silicon nitride, plasma-chemical etching, gas mixture, Electronics, TK7800-8360

وصف الملف: electronic resource

Relation: https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/3284; https://doaj.org/toc/1729-7648

URL الوصول: https://doaj.org/article/e6a2c3230cb54e9c82d796cc6c9ef8d7

المؤلفون: Mikhail Yu. Fominsky, Lyudmila V. Filippenko, Artem M. Chekushkin, Pavel N. Dmitriev, Valery P. Koshelets

المصدر: Electronics; Volume 10; Issue 23; Pages: 2944

مصطلحات موضوعية: electron-beam lithography, negative electronic resists, plasma chemical etching, magnetron sputter deposition, superconducting tunnel structures, niobium-based high-quality tunnel junctions

وصف الملف: application/pdf

Relation: Microelectronics; https://dx.doi.org/10.3390/electronics10232944

الاتاحة: https://doi.org/10.3390/electronics10232944

المؤلفون: Sergei Kurbatov, Alexander Mironenko, Victor Naumov, Alexander Skundin, Alexander Rudy

المصدر: Batteries; Volume 7; Issue 4; Pages: 65

مصطلحات موضوعية: 3D solid-state battery, plasma-chemical etching, magnetron sputtering, Si-O-Al nanocomposite, lithium cobaltite, LiPON, discharge capacity

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://dx.doi.org/10.3390/batteries7040065

الاتاحة: https://doi.org/10.3390/batteries7040065

المؤلفون: Anastasia Yakuhina, Alexey Kadochkin, Vladimir Amelichev, Dmitry Gorelov, Sergey Generalov

المصدر: Photonics; Volume 7; Issue 2; Pages: 31

مصطلحات موضوعية: whispering gallery mode, microresonator, silicon disk resonator, wedge-shaped profile, silicon-on-isolator, plasma chemical etching, mode stability

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://dx.doi.org/10.3390/photonics7020031

الاتاحة: https://doi.org/10.3390/photonics7020031

المؤلفون: T. A. Ismailov, P. R. Zakharova, B. A. Shangereeva, A. R. Shakhmaeva

المصدر: Вестник Дагестанского государственного технического университета: Технические науки, Vol 35, Iss 4, Pp 56-62 (2016)

مصطلحات موضوعية: substrate, ion-plasma treatment, plasma chemical etching, Technology

وصف الملف: electronic resource

Relation: https://vestnik.dgtu.ru/jour/article/view/56; https://doaj.org/toc/2073-6185; https://doaj.org/toc/2542-095X

URL الوصول: https://doaj.org/article/d1cb44281ef340369a50d38c18951155

المؤلفون: Емельянов, В.В., Купо, А.Н., Емельянов, В.А., Emelyanov, V.V., Kupo, A.N., Emelyanov, V.A.

مصطلحات موضوعية: плазмохимическое травление, алюминиевые межсоединения, математическое моделирование плазменных процессов, plasma-chemical etching, aluminum interconnects, mathematical modeling of plasma processes

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://elib.gsu.by/handle123456789/64529; 621.382; https://doi.org/10.54341/20778708_2023_4_57_69

الاتاحة: https://elib.gsu.by/handle123456789/64529
https://doi.org/10.54341/20778708_2023_4_57_69

المؤلفون: Емельянов, В.В., Купо, А.Н., Емельянов, В.А., Emelyanov, V.V., Kupo, A.N., Emelyanov, V.A.

مصطلحات موضوعية: плазмохимическое травление, нитрид кремния, математическое моделирование, plasma-chemical etching, silicon nitride, mathematical modeling

وصف الملف: application/pdf

Relation: Емельянов, В.В. Моделирование плазмохимического травления функционального слоя нитрида кремния на подслое диоксида кремния в технологиях микроэлектроники / В.В. Емельянов, А.Н. Купо, В.А. Емельянов // Проблемы физики, математики и техники. Сер. Техника. - 2023. - № 3 (56). - С. 60-63.; http://elib.gsu.by/jspui/handle/123456789/62868; 621.382; https://doi.org/10.54341/20778708_2023_3_56_60

الاتاحة: http://elib.gsu.by/jspui/handle/123456789/62868
https://doi.org/10.54341/20778708_2023_3_56_60

المؤلفون: Купо, А.Н., Емельянов, В.В., Емельянов, В.А., Kupo, A.N., Emelyanov, V.V., Emelyanov, V.A.

مصطلحات موضوعية: плазмохимическое травление, диоксид кремния, инфракрасное излучение, математическое моделирование, plasma-chemical etching, silicon dioxide, infrared radiation, mathematical modeling

وصف الملف: application/pdf

Relation: Купо, А.Н. Моделирование влияния инфракрасного излучения на фазовый состав покрытий диоксида кремния / А.Н. Купо, В.В. Емельянов, В.А. Емельянов // Проблемы физики, математики и техники. Сер. Техника. - 2023. - № 3 (56). - С. 64-68.; http://elib.gsu.by/jspui/handle/123456789/62869; 621.382; https://doi.org/10.54341/20778708_2023_3_56_64

الاتاحة: http://elib.gsu.by/jspui/handle/123456789/62869
https://doi.org/10.54341/20778708_2023_3_56_64

المؤلفون: Hladkovskiy, V. V., Fedorovich, O. A.

المصدر: Ukrainian Journal of Physics; Vol. 62 No. 3 (2017); 208 ; Український фізичний журнал; Том 62 № 3 (2017); 208 ; 2071-0194 ; 2071-0186 ; 10.15407/ujpe62.03

مصطلحات موضوعية: bias voltage, plasma-chemical etching, sputtering, plasma-chemical reactor, radio-frequency discharge, optical spectroscopy

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018698/828; https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018698

الاتاحة: https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018698
https://doi.org/10.15407/ujpe62.03.0208

المؤلفون: Dudin S. V., Lisovskiy V. A., Dahov A. N., Pletniov V. M.

المصدر: Tekhnologiya i Konstruirovanie v Elektronnoi Apparature, Iss 1-2, Pp 42-48 (2011)

مصطلحات موضوعية: HF capacitive discharge, plasma-chemical etching of semiconductor materials, plasma-chemical reactor, Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering, TK1-9971

وصف الملف: electronic resource

Relation: http://www.tkea.com.ua/tkea/2011/1-2_2011/pdf/13.zip; https://doaj.org/toc/2225-5818

URL الوصول: https://doaj.org/article/bbf6fb62ccd242a0824c75d3346890a2

المؤلفون: Fedorovich O. A., Kruglenko M. P., Polozov B. P.

المصدر: Tekhnologiya i Konstruirovanie v Elektronnoi Apparature, Iss 6, Pp 46-49 (2009)

مصطلحات موضوعية: plasma-chemical reactor, plasma-chemical etching, monosilicon, etching rate, discharge current, photovoltaic cells, Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering, TK1-9971

وصف الملف: electronic resource

Relation: http://www.tkea.com.ua/tkea/2009/6_2009/pdf/10.zip; https://doaj.org/toc/2225-5818

URL الوصول: https://doaj.org/article/816723ad18d748549bd0d7d22465256b

مصطلحات موضوعية: Ð¿Ð»Ð°Ð·Ð¼Ð¾Ñ Ð¸Ð¼Ð¸Ñ‡ÐµÑÐºÐ¾Ðµ травление, optical emission spectroscopy, карбид кремния, plasma-chemical etching, silicon carbide, оптическая-эмиссионная спектроскопия, computer simulation, компьютерное моделирование, мембрана, membrane, глубокое травление, deep etching

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::07d44e3897e310be744696d69efb847d

المؤلفون: Artem Chekushkin, Pavel N. Dmitriev, Lyudmila V. Filippenko, Valery P. Koshelets, M. Fominsky

المصدر: Electronics, Vol 10, Iss 2944, p 2944 (2021)
Electronics; Volume 10; Issue 23; Pages: 2944

مصطلحات موضوعية: Fabrication, Materials science, TK7800-8360, Computer Networks and Communications, Terahertz radiation, electron-beam lithography, negative electronic resists, plasma chemical etching, magnetron sputter deposition, superconducting tunnel structures, niobium-based high-quality tunnel junctions, Substrate (electronics), Noise (electronics), Electrical and Electronic Engineering, Lithography, Superconductivity, business.industry, Isotropic etching, Hardware and Architecture, Control and Systems Engineering, Signal Processing, Optoelectronics, Electronics, business, Electron-beam lithography

وصف الملف: application/pdf

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::7f65e1acd1576e4f9edfe5fdb61d7dd3
https://www.mdpi.com/2079-9292/10/23/2944

المؤلفون: Новосядлий, Степан Петрович, Мельник, Любомир Васильович, Новосядлий, Святослав Володимирович

المصدر: Eastern-European Journal of Enterprise Technologies

مصطلحات موضوعية: plasma chemical etching, deposition, boron phosphorus silicate glass, photoresist, reactor, УДК 621.794.4, плазмохимическое травление, осаждение, боро–фосфоро силикатное стекло, фоторезист, реактор, плазмохімічне травлення, осадження, боро–фосфоро силікатне скло, Indonesia

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://www.neliti.com/publications/306315/implementation-plasma-chemical-etching-in-submicron-technology-wsi-structure

الاتاحة: https://www.neliti.com/publications/306315/implementation-plasma-chemical-etching-in-submicron-technology-wsi-structure

المؤلفون: P. B. Lagov, A. S. Drenin, E. S. Rogovskii, A. M. Lednev, П. Б. Лагов, А. С. Дренин, Е. С. Роговский, А. М. Леднев

المساهمون: Работа выполнена в рамках ФЦП «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно−технологического комплекса России на 2007—2013 годы». (ГК № 14.516.11.0007)

المصدر: Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering; № 3 (2013); 51-53 ; Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники; № 3 (2013); 51-53 ; 2413-6387 ; 1609-3577 ; 10.17073/1609-3577-2013-3

مصطلحات موضوعية: скорость травления, multi−cascade solar cell, plasma−chemical etching, etching rate, многокаскадный солнечный элемент, плазмохимическое травление

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://met.misis.ru/jour/article/view/76/69; Fraas, L. M. Design of high efficiency monolithic stacked multijunction solar cells. / L. M. Fraas, R. C. Knechtli // 13th IEEE Photovoltaic Specialist Conf. Conf. Rec. — Washington (D. C.), 1978. − P. 886—891.; King, R. R. 40% efficient metamorphic GaInP/GaInAs/Ge multijunction solar cells / R. R. King, D. C. Law, K. M. Edmondson // Appl. Phys. Lett. − 2007. — V. 90, N 18. − P. 3516.; http://www.nrel.gov/ncpv/images/efficiency_chart.jpg; http://www.spectrolab.com/faqs−space.htm; US Pat. 5882987 A. Smart−cut process for the production of thin semiconductor material films / K. V. Srikrishnan. Mar 16, 1999.; May, G. S. Fundamentals of semiconductor fabrication / G. S. May, S. M. Sze. − N. Y.: John Wiley & Sons, Inc., 2004.; Averkin, S. N. A microwave high−density plasma source for submicron silicon IC technology / S. N. Averkin, K. A. Valiev, V. A. Naumov, A. V. Kalinin, A. D. Krivospitskii, A. A. Orlikovskii, A. A. Rylov // Russian Microelectronics. − 2001. − Т. 30, N 3. − P. 155—159.; Taek Sung Kim. Dry etching of germanium using inductively coupled Ar/CCl2F2/Cl2 plasma / Taek Sung Kim, Sang−Sik Choi, Mi Im Shin, Tae Soo Jeong, Sukil Kang, Chel−Jong Choi, Kyu−Hwan Shim // Electron. Mater. Lett. − 2010. − V. 6, N 1. − P. 35—39.; Ballingall, J. M. Electron transport across the abrupt Ge—GaAs n–—n−heterojunction / J. M. Ballingall, R. A. Stall, C. E. C. Wood, L. F. Eastman // J. Appl. Phys. − 1981. − V. 52. − P. 4098.; https://met.misis.ru/jour/article/view/76

الاتاحة: https://met.misis.ru/jour/article/view/76
https://doi.org/10.17073/1609-3577-2013-3-51-53

المؤلفون: Vladimir Amelichev, Anastasia Yakuhina, Dmitry Gorelov, A. S. Kadochkin, Sergey Generalov

المصدر: Photonics, Vol 7, Iss 31, p 31 (2020)
Photonics
Volume 7
Issue 2

مصطلحات موضوعية: lcsh:Applied optics. Photonics, Materials science, Silicon, silicon disk resonator, Base (geometry), chemistry.chemical_element, Silicon on insulator, 02 engineering and technology, Edge (geometry), wedge-shaped profile, 01 natural sciences, Constructive, 010309 optics, Resonator, Optics, Etching (microfabrication), plasma chemical etching, 0103 physical sciences, Radiology, Nuclear Medicine and imaging, microresonator, Instrumentation, mode stability, business.industry, lcsh:TA1501-1820, 021001 nanoscience & nanotechnology, Atomic and Molecular Physics, and Optics, chemistry, Whispering-gallery wave, 0210 nano-technology, business, silicon-on-isolator, whispering gallery mode

وصف الملف: application/pdf

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::f13f388ba6001340b1f0b8c6329f2717
https://www.mdpi.com/2304-6732/7/2/31

المؤلفون: Селецька, Олена Олександрівна, Селецкая, Елена Александровна, Seletska, O. O.

مصطلحات موضوعية: радіовимірювальні прилади, радіовимірювальний оптичний перетворювач, плазмохімічне травлення, функція перетворення, чутливість, радиоизмерительные приборы, радиоизмерительный оптический преобразователь, плазмохимическое травление, функция преобразования, чувствительность, radiomeasuring devices, radiomeasuring optical transducer, frequency, plasma chemical etching, function of conversion, sensitivity, частота

وصف الملف: application/pdf

Relation: Селецька О.О. Радіовимірювальні оптичні перетворювачі для визначення часу плазмохімічного травлення [Текст] : автореф. дис. . канд. техн. наук : 05.11.08 / Олена Олександрівна Селецька; Вінницький національний технічний університет. – Вінниця, 2011. – 19 с. - Бібліогр. : с. 16-17 (15 назв).; http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/2938; 621.382.8

الاتاحة: http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/2938

المؤلفون: Білилівський, В. М., Кравченко, С. Ю., Кравченко, Ю. С., Осадчук, В. С.

المصدر: Visnyk of Vinnytsia Politechnical Institute; No 4 (2011); 169-172 ; Вестник Винницкого политехнического института; № 4 (2011); 169-172 ; Вісник Вінницького політехнічного інституту; № 4 (2011); 169-172 ; 1997-9274 ; 1997-9266

مصطلحات موضوعية: plasma-chemical etching, optical radiation, photoconverters, the registration system, the electrical circuit, microcontroller, плазмохімічне травлення, оптичне випромінювання, фотоперетворювач, система реєстрації, схема електрична, мікроконтролер, плазмохимическое травление, оптическое излучение, фотопреобразователи, система регистрации, схема электрическая, микроконтроллер

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://visnyk.vntu.edu.ua/index.php/visnyk/article/view/1502/1502; https://visnyk.vntu.edu.ua/index.php/visnyk/article/view/1502

الاتاحة: https://visnyk.vntu.edu.ua/index.php/visnyk/article/view/1502