المؤلفون: Temirov, Alexander A., Kubasov, Ilya V., Turutin, Andrei V., Ilina, Tatiana S., Kislyuk, Alexander M., Kiselev, Dmitry A., Skryleva, Elena A., Sobolev, Nikolai A., Salimon, Igor A., Batrameev, Nikolai V., Malinkovich, Mikhail D., Parkhomenko, Yuri N.

المصدر: Modern Electronic Materials, 9((4)), 177-184, (2023-12-12)

مصطلحات موضوعية: silicon-carbon films, diamond-like materials, plasma-chemical deposition, thin film technologies

Relation: https://doi.org/10.5755/j01.ms.17.4.770; https://doi.org/10.1109/JPROC.2018.2790840; https://doi.org/10.1063/1.364421; https://doi.org/10.1016/j.diamond.2011.12.012; https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2014.03.021; https://doi.org/10.1038/ncomms9600; https://doi.org/10.1364/OIC.2016.TD.10; https://doi.org/10.1016/S0925-9635(98)00262-3; https://doi.org/10.1155/2013/352387; https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2012.06.094; https://doi.org/10.1016/S0257-8972(99)00241-8; https://doi.org/10.1016/j.diamond.2016.12.003; https://doi.org/10.1016/j.tsf.2014.11.078; https://doi.org/10.1016/j.diamond.2015.12.002; https://doi.org/10.1016/j.tsf.2012.11.109; https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.06.057; https://doi.org/10.1016/B978-012513910-6/50015-3; https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2004.05.023; https://doi.org/10.1002/aelm.201800143; https://doi.org/10.1016/S0927-796X(02)00005-0; https://doi.org/10.3897/j.moem.9.4.116552; oai:zenodo.org:10424951

الاتاحة: https://doi.org/10.3897/j.moem.9.4.116552

المؤلفون: A. A. Temirov, I. V. Kubasov, A. V. Turutin, T. S. Ilina, A. M. Kislyuk, D. A. Kiselev, E. A. Skryleva, N. A. Sobolev, I. A. Salimon, N. V. Batrameev, M. D. Malinkovich, Yu. N. Parkhomenko, А. А. Темиров, И. В. Кубасов, А. В. Турутин, Т. С. Ильина, А. М. Кислюк, Д. А. Киселев, Е. А. Скрылева, Н. А. Соболев, И. А. Салимон, Н. В. Батрамеев, М. Д. Малинкович, Ю. Н. Пархоменко

المساهمون: The study was carried out with financial support from the Russian Science Foundation (grant No. 21-19-00872, https://rscf.ru/project/21-19-00872/). N.A.S. was supported by the project i3N (UIDB/50025/2020, UIDP/50025/2020 and LA/P/0037/2020) which was financed by national funds through the Fundação para a Ciência e Tecnologia (FCT) and the Ministério da Educação e Ciência (MEC) of Portugal. The authors are grateful to Carlos Rosário for his help in current-voltage characteristic measurements., Исследование выполнено за счет гранта Российского научного фонда № 21-19-00872, https://rscf.ru/project/21-19-00872/. Авторы выражают признательность Carlos Rosário за помощь в измерениях вольт-амперных характеристик.

المصدر: Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering; Том 27, № 1 (2024) ; Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники; Том 27, № 1 (2024) ; 2413-6387 ; 1609-3577

مصطلحات موضوعية: технологии тонких пленок, diamond-like materials, plasma chemical deposition, thin film technology, алмазоподобные материалы, плазмохимическое осаждение

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://met.misis.ru/jour/article/view/564/451; Meškinis Š., Tamulevičienė A. Structure, properties and applications of diamond like nanocomposite (SiOx containing DLC) films: A review. Materials Science. 2011; 17(4): 358—370. https://doi.org/10.5755/j01.ms.17.4.770; Горшунов Б.П., Шупегин М.Л., Иванов В.Ю., Прохоров А.С., Спектор И.Е., Волков А.А. Инфракрасная спектроскопия алмазоподобных кремний-углеродных пленок. Журнал технической физики. 2008; 78(5): 111—116.; Yu S. Neuro-inspired computing with emerging nonvolatile memorys. Proceedings of the IEEE. 2018; 106(2): 260—285. https://doi.org/10.1109/JPROC.2018.2790840; Wan J.Z., Pollak F.H., Dorfman B.F. Micro-Raman study of diamondlike atomic-scale composite films modified by continuous wave laser annealing. Journal of Applied Physics. 1997; 81(9): 6407—6414. https://doi.org/10.1063/1.364421; Gao X., Zhang X., Wan C., Wang J., Tan X., Zeng D. Temperature-dependent resistive switching of amorphous carbon/silicon heterojunctions. Diamond and Related Materials. 2012; 22: 37—41. https://doi.org/10.1016/j.diamond.2011.12.012; Ren B., Wang L., Wang Lin., Huang J., Tang Ke, Lou Y., Yuan D., Pan Zh., Xia Y. Investigation of resistive switching in graphite-like carbon thin film for non-volatile memory applications. Vacuum. 2014; 107: 1—5. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2014.03.021; Santini C.A., Sebastian A., Marchiori Ch., Jonnalagadda V.P., Dellmann L., Koelmans W.W., Rossell M.D., Rossel Ch.P., Eleftheriou Ev. Oxygenated amorphous carbon for resistive memory applications. Nature Communications. 2015; 6(1): 8600. https://doi.org/10.1038/ncomms9600; Liao Y.-Y., Liao W.-B., Jaing C.-C., Chang Y.-C., Lee C.-C., Kuo C.-C. Optical properties of transparent diamond-like carbon thin films. In: Optical Interference Coatings 2016. Tucson, Arizona United States 19–24 June 2016. Washington, D.C.: OSA; 2016. P. TD.10. https://doi.org/10.1364/OIC.2016.TD.10; Grill A. Diamond-like carbon: state of the art. Diamond and Related Materials. 199; 8(2-5): 428—434. https://doi.org/10.1016/S0925-9635(98)00262-3; Белогорохов А.И., Додонов А.М., Малинкович М.Д., Пархоменко Ю.Н., Смирнов А.П., Шупегин М.Л. Исследование молекулярной структуры матрицы алмазоподобных кремний-углеродных нанокомпозитов. Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2007; 1: 69—71.; Jana S., Das S., Gangopadhyay U., Mondal A., Ghosh P. A clue to understand environmental influence on friction and wear of diamond-like nanocomposite thin film. Advances in Tribology. 2013; (1-4): 1—7. https://doi.org/10.1155/2013/352387; Hofmann D., Kunkel S., Bewilogua K., Wittorf R. From DLC to Si-DLC based layer systems with optimized properties for tribological applications. Surface and Coatings Technology. 2013; 215: 357—363. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2012.06.094; Venkatraman C., Brodbeck C., Lei R. Tribological properties of diamond-like nanocomposite coatings at high temperatures. Surface and Coatings Technology. 1999; 115(2-3): 215—221. https://doi.org/10.1016/S0257-8972(99)00241-8; Barve S.A., Chopade S., Kar R., Chand N., Deo M.N., Biswas A., Patel N., Rao G.M., Patil D.S., Sinha S. SiOx containing diamond like carbon coatings: Effect of substrate bias during deposition. Diamond and Related Materials. 2017; 71: 63—72. https://doi.org/10.1016/j.diamond.2016.12.003; Nakazawa H., Kamata R., Miura S., Okuno S. Effects of frequency of pulsed substrate bias on structure and properties of silicon-doped diamond-like carbon films by plasma deposition. Thin Solid Films. 2015; 574: 93—98. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2014.11.078; Batory D., Jedrzejczak A., Kaczorowski W., Kolodziejczyk L., Burnat B. The effect of Si incorporation on the corrosion resistance of a-C:H:SiOx coatings. Diamond and Related Materials. 2016; 67: 1—7. https://doi.org/10.1016/j.diamond.2015.12.002; Lazauskas A., Grigaliunas V., Guobienė A., Puišo J., Prosyčevas I., Baltrusaitis J. Polyvinylpyrrolidone surface modification with SiOx containing amorphous hydrogenated carbon (a-C:H/SiOx) and nitrogen-doped a-C:H/SiOx films using Hall-type closed drift ion beam source. Thin Solid Films. 2013; 538: 25—31. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2012.11.109; Santra T.S., Bhattacharyya T.K., Patel P., Tseng F.G., Barik T.K. Structural and tribological properties of diamond-like nanocomposite thin films. Surface and Coatings Technology. 2011; 206(2-3): 228—233. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.06.057; Dorfman B.F. Stabilized sp2/sp3 carbon and metal-carbon composites of atomic scale as interface and surface-controlling dielectric and conducting materials. In: Handbook of Surfaces and Interfaces of Materials. 2001; 1(8): 447—508. https://doi.org/10.1016/B978-012513910-6/50015-3; Yang W.J., Sekino T., Shim K.B., Niihara K., Auh K.H. Microstructure and tribological properties of SiOx/DLC films grown by PECVD. Surface and Coatings Technology. 2005; 194(1): 128—135. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2004.05.023; Lanza M., Philip Wong H.-S., Pop E., Ielmini D., Strukov D., Regan B.C., Larcher L., Villena M.A., Yang J.J., Goux L., Belmonte A., Yang Y., Puglisi F.M., Kang J., Magyari-Kope B., Yalon E., Kenyon A., Buckwell M., Mehonic A., Shluger A.L., Li H., Hou T.-H. A., Hudec B., Akinwande D., Ge R., Ambrogio S., Roldan J.B., Miranda E., Sune J., Pey K.L., Wu X., Raghavan N., Wu E., Lu W.D., Navarro G., Zhang W., Wu H., Li R., Holleitner A., Wurstbauer U., Lemme M.Ch., Liu M., Long Sh., Liu Q., Lv H., Padovani A., Pavan P., Valov Il., Jing X., Han T., Zhu K., Chen Sh., Hui F., Shi Y. Recommended methods to study resistive switching devices. Advanced Electronic Materials. 2019; 5(1): 1800143. https://doi.org/10.1002/aelm.201800143; Robertson J. Diamond-like amorphous carbon. Materials Science and Engineering: R: Reports. 2002; 37(4-6): 129—281. https://doi.org/10.1016/S0927-796X(02)00005-0; https://met.misis.ru/jour/article/view/564

الاتاحة: https://met.misis.ru/jour/article/view/564
https://doi.org/10.17073/1609-3577j.met202310.564

المؤلفون: Najafov, B. A., Dadashova, V. V.

المصدر: Ukrainian Journal of Physics; Vol. 59 No. 10 (2014); 959 ; Український фізичний журнал; Том 59 № 10 (2014); 959 ; 2071-0194 ; 2071-0186 ; 10.15407/ujpe59.10

مصطلحات موضوعية: thin hydrogenated films, plasma chemical deposition, photoconductivity, гидрогенизированные тонкие пленки, плазмохимическое осаждение, фотопроводимость

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018533/585; https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018533/586; https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018533

الاتاحة: https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018533
https://doi.org/10.15407/ujpe59.10.0959

مصطلحات موضوعية: атомно-слоевое осаждение, фотоколориметрия, углеродные нанотрубки, carbon nanotubes, photocolorimetry, Ð¿Ð»Ð°Ð·Ð¼Ð¾Ñ Ð¸Ð¼Ð¸Ñ‡ÐµÑÐºÐ¾Ðµ осаждение из газовой фазы, atomic layer deposition, измерение толщины Ñ‚Ð¾Ð½ÐºÐ¸Ñ Ð¿Ð»ÐµÐ½Ð¾Ðº, nickel oxide, measurement of thin film thickness, plasma chemical deposition from the gas phase, оксид никеля

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b266a3785a5d8736abcc1a7e842d4191

المؤلفون: V. L. Koshevoi, A. O. Belorus, V. S. Levitskiy, В. Л. Кошевой, А. О. Белорус, В. С. Левицкий

المصدر: Alternative Energy and Ecology (ISJAEE); № 19 (2015); 118-123 ; Альтернативная энергетика и экология (ISJAEE); № 19 (2015); 118-123 ; 1608-8298

مصطلحات موضوعية: рамановская спектроскопия, microcrystalline silicon, plasma chemical deposition parameter crystallinity, Raman spectroscopy, микрокристаллический кремний, плазмохимическое осаждение, параметр кристалличности

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://www.isjaee.com/jour/article/view/173/176; Гавриленко Л.В., Дубинов А.А., Романов Ю.А. Учебно-научный и инновационный комплекс «Физические основы информационно-телекоммуникационных систем» Комбинационное рассеяние в твёрдых телах (Электронное методическое пособие).; http:www.unn.ru/pages/e-library/methodmaterial/files/43.pdf; Комбинационное рассеяние света (рамановское рассеяние): методическое пособие для лабораторных работ. Режим доступа; http://lab2.phys.spbu.ru/pdf_to/opt21.pdf; Вересов А.Г., Наний О.Е. Комбинационное рассеяние света. «РОСНАНО». 2009–2011 www.rusnano.com Режим доступа; http://thesaurus.rusnano.com/wiki/article2041; Спектрометр комбинационного рассеяния света Horiba Jobin Yvon T64000 [Электронный ресурс]. ГНЦ ФГУП «Исследовательский центр имени М. В. Келдыша», отдел нанотехнологий. Режим доступа: http://www.nanokerc.ru/node/143; Markus Klindworth. Crystallinity measurement by Raman spectroscopy (std. approach).; Zhihua Hu , Xianbo Liao, Hongwei Diao, Yi Cai, Shibin Zhang, Elvira Fortunato, Rodrigo Martins. Hy-drogenated p-type nanocrystalline silicon in amorphous silicon solar cells // Journal of Non-Crystalline Solids. 15 June 2006. Vol. 352, Iss. 9–20. P. 1900–1903.; Семёнов А.В. Технология тонкоплёночных солнечных модулей большой площади на основе аморфного и микрокристаллического кремния: Диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук, 2015.; https://www.isjaee.com/jour/article/view/173

الاتاحة: https://www.isjaee.com/jour/article/view/173
https://doi.org/10.15518/isjaee.2015.19.016

المؤلفون: Кутьин, А., Поляков, В., Лобанов, А., Чурбанов, М.

مصطلحات موضوعية: МАКРОКИНЕТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ,ОКСИДЫ ТЕЛЛУРА И ВОЛЬФРАМА,ЗАГОТОВКИ ВОЛОКОННЫХ СВЕТОВОДОВ,MACROKINETIC MODEL OF PLASMA-CHEMICAL DEPOSITION,TELLURIUM AND TUNGSTEN OXIDES,OPTICAL FIBER PREFORMS

وصف الملف: text/html

الاتاحة: http://cyberleninka.ru/article/n/makrokineticheskiy-analiz-plazmohimicheskogo-sinteza-oksidov-tellura-i-volframa-iz-ih-hloridov
http://cyberleninka.ru/article_covers/14633679.png

المؤلفون: B.A. Najafov, V.V. Dadashova

المصدر: Ukrainian Journal of Physics; Vol. 59 No. 10 (2014); 959
Український фізичний журнал; Том 59 № 10 (2014); 959

مصطلحات موضوعية: plasma chemical deposition, плазмохимическое осаждение, Carbon film, Materials science, Chemical engineering, фотопроводимость, Chemical deposition, General Physics and Astronomy, photoconductivity, thin hydrogenated films, Plasma, Combustion chemical vapor deposition, гидрогенизированные тонкие пленки

وصف الملف: application/pdf

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::db8c61f6e9315215ca9c3502ce002c2b
https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018533

المؤلفون: Rozsívalová, Zdeňka

Thesis Advisors: Studýnka, Jan, Krčma, František

مصطلحات موضوعية: HMDSO, reflectivity, plasma chemical deposition, odrazivost, stárnutí, plazmochemická depozice, accelerated aging, tenké vrstvy., IČ spektroskopie, thin layers, infrared spectroscopy

الاتاحة: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-216504

المؤلفون: Rozsívalová, Zdeňka

المساهمون: Krčma, František, Studýnka, Jan

مصطلحات موضوعية: HMDSO, IČ spektroskopie, odrazivost, stárnutí, plazmochemická depozice, tenké vrstvy, infrared spectroscopy, reflectivity, accelerated aging, plasma chemical deposition, thin layers

وصف الملف: application/pdf; text/html

Relation: ROZSÍVALOVÁ, Z. Fyzikálně chemická charakterizace vlastností tenkých reflexních vrstev na křemíkových podložkách [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2009.; 2736; http://hdl.handle.net/11012/12991

الاتاحة: http://hdl.handle.net/11012/12991

المؤلفون: Hong, Jungmi

المساهمون: Ruzic, David N.

مصطلحات موضوعية: Plasma Chemical Deposition, Dielectric Barrier Discharge, Atmospheric Pressure Plasma

Relation: http://hdl.handle.net/2142/44156

الاتاحة: http://hdl.handle.net/2142/44156

المؤلفون: Rozsívalová, Zdeňka

المساهمون: Krčma, František, Studýnka, Jan

المصدر: ROZSÍVALOVÁ, Z. Fyzikálně chemická charakterizace vlastností tenkých reflexních vrstev na křemíkových podložkách [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2009.

مصطلحات موضوعية: HMDSO, IČ spektroskopie, odrazivost, stárnutí, plazmochemická depozice, tenké vrstvy, infrared spectroscopy, reflectivity, accelerated aging, plasma chemical deposition, thin layers

وصف الملف: text/html

Relation: http://hdl.handle.net/11012/12991

الاتاحة: http://hdl.handle.net/11012/12991

المؤلفون: Krčma, František, Studýnka, Jan, Rozsívalová, Zdeňka

مصطلحات الفهرس: HMDSO, IČ spektroskopie, odrazivost, stárnutí, plazmochemická depozice, tenké vrstvy., infrared spectroscopy, reflectivity, accelerated aging, plasma chemical deposition, thin layers, Text

URL: http://hdl.handle.net/11012/12991

المؤلفون: Krčma, František, Studýnka, Jan

مصطلحات الفهرس: HMDSO, IČ spektroskopie, odrazivost, stárnutí, plazmochemická depozice, tenké vrstvy., infrared spectroscopy, reflectivity, accelerated aging, plasma chemical deposition, thin layers, Text

URL: http://hdl.handle.net/11012/12991

المؤلفون: Krčma, František, Studýnka, Jan

مصطلحات الفهرس: HMDSO, IČ spektroskopie, odrazivost, stárnutí, plazmochemická depozice, tenké vrstvy., infrared spectroscopy, reflectivity, accelerated aging, plasma chemical deposition, thin layers, Text

URL: http://hdl.handle.net/11012/12991

المؤلفون: Krčma, František, Studýnka, Jan

مصطلحات الفهرس: HMDSO, IČ spektroskopie, odrazivost, stárnutí, plazmochemická depozice, tenké vrstvy., infrared spectroscopy, reflectivity, accelerated aging, plasma chemical deposition, thin layers, Text

URL: http://hdl.handle.net/11012/12991

المؤلفون: Krčma, František, Studýnka, Jan, Rozsívalová, Zdeňka

مصطلحات الفهرس: HMDSO, IČ spektroskopie, odrazivost, stárnutí, plazmochemická depozice, tenké vrstvy., infrared spectroscopy, reflectivity, accelerated aging, plasma chemical deposition, thin layers, Text

URL: http://hdl.handle.net/11012/12991