المؤلفون: Menshakov, A., Bruhanova, Y., Skorynina, P., Medvedev, A.

المصدر: Membranes

مصطلحات موضوعية: ANODIC EVAPORATION, FILM MEMBRANES, HOLLOW CATHODE ARC, ION ASSISTANCE, NANOCOMPOSITE COATINGS, PECVD, PVD, TISICN, CATHODES, CHEMICAL ACTIVATION, COATINGS, DEPOSITION RATES, DETERIORATION, ELECTRIC DISCHARGES, EVAPORATION, GAS MIXTURES, HARDNESS, NANOCOMPOSITES, SILICON COMPOUNDS, FILM MATERIALS, GASES MIXTURE, HEXAMETHYLDISILAZANE, HIGH-RATE DEPOSITION, NANO-COMPOSITE COATING, REACTIVE EVAPORATION, TITANIUM COMPOUNDS

وصف الملف: application/pdf

Relation: Menshakov, A, Bruhanova, Y, Skorynina, P & Medvedev, A 2023, 'Plasma Enhanced High-Rate Deposition of Advanced Film Materials by Metal Reactive Evaporation in Organosilicon Vapors', Membranes, Том. 13, № 4, 374. https://doi.org/10.3390/membranes13040374; Menshakov, A., Bruhanova, Y., Skorynina, P., & Medvedev, A. (2023). Plasma Enhanced High-Rate Deposition of Advanced Film Materials by Metal Reactive Evaporation in Organosilicon Vapors. Membranes, 13(4), [374]. https://doi.org/10.3390/membranes13040374; Final; All Open Access, Gold, Green; https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-85153876031&doi=10.3390%2fmembranes13040374&partnerID=40&md5=82b9659d2a5ce519bcd2a515858857f3; https://www.mdpi.com/2077-0375/13/4/374/pdf?version=1679884870; http://elar.urfu.ru/handle/10995/130428; 85153876031; 000977516100001

الاتاحة: http://elar.urfu.ru/handle/10995/130428
https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-85153876031&doi=10.3390%2fmembranes13040374&partnerID=40&md5=82b9659d2a5ce519bcd2a515858857f3
https://www.mdpi.com/2077-0375/13/4/374/pdf?version=1679884870
https://doi.org/10.3390/membranes13040374

المؤلفون: A. Shimizu, D. Miyazaki, K. Iwatani, S. Hinata, S. Saito, S.-J. Jeon, T. Ogawa, Y. Hirokawa, 宮崎 大輝, 小川 智之, 岩谷 幸作, 廣川 祐生, 斉藤 伸, 日向 慎太朗, 清水 章弘

المصدر: 日本磁気学会論文特集号 / Transaction of the Magnetics Society of Japan Special Issues. 2023, 7(1):29

المؤلفون: Грудинин, Владислав Алексеевич

المساهمون: Блейхер, Галина Алексеевна

مصطلحات موضوعية: покрытия из нитрида хрома, горячая мишень, магнетронное распыление, сублимация, высокоскоростное осаждение, chromium nitride coatings, hot target, magnetron sputtering, sublimation, high-rate deposition, 03.06.01, 621.794.6:621.359:621.385.64

وصف الملف: application/pdf

Relation: Грудинин В. А. Высокоскоростное магнетронное осаждение оксидных и нитридных покрытий : научный доклад / В. А. Грудинин; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Управление магистратуры, аспирантуры и докторантуры (УМАД), Отделение экспериментальной физики (ОЭФ); науч. рук. Г. А. Блейхер. — Томск, 2022.; http://earchive.tpu.ru/handle/11683/70855

الاتاحة: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/70855

المؤلفون: Hiromichi NAKATA, Kazutaka TACHIBANA, Kenji KOSAKA, Osamu ARIYADA, Takayasu SATO, Yoji SATO, 中田 博道, 佐藤 羊治, 佐藤 貴康, 有屋田 修, 橘 和孝, 高坂 健児

المصدر: 表面技術 / Journal of The Surface Finishing Society of Japan. 2022, 73(3):128

المساهمون: Deng, X

المصدر: Other Information: Work performed by University of Toledo, Toledo, Ohio

وصف الملف: Medium: ED; Size: 101 pp.

URL الوصول: http://www.osti.gov/scitech/servlets/purl/875762

المؤلفون: Alena Olegovna Borduleva, Galina Alekseevna Bleykher, Dmitrii Vladimirovich Sidelev, Valeriy Pavlovich Krivobokov

المصدر: Acta Polytechnica, Vol 56, Iss 6, Pp 425-431 (2016)

مصطلحات موضوعية: magnetron sputtering, hot target, evaporation, high rate deposition., Engineering (General). Civil engineering (General), TA1-2040

وصف الملف: electronic resource

Relation: https://ojs.cvut.cz/ojs/index.php/ap/article/view/3766; https://doaj.org/toc/1210-2709; https://doaj.org/toc/1805-2363

URL الوصول: https://doaj.org/article/9a4e3ad64d3e47b2a4605edb72b49a8e

المساهمون: Britt, J

المصدر: Other Information: PBD: 1 Apr 2002; Other Information: Work performed by Global Solar Energy, Tucson, Arizona

وصف الملف: Medium: ED; Size: 52 pages

URL الوصول: http://www.osti.gov/scitech/servlets/purl/15000424

المؤلفون: Marins, Emílio Sérgio, Guduru, Virendra, Ribeiro, Miguel, Cerqueira, M. F., Bouattour, Ali, Alpuim, P.

المساهمون: Universidade do Minho

مصطلحات موضوعية: Nanocrystalline silicon, Thin films, High-rate deposition, Solar cells, Science & Technology

وصف الملف: application/pdf

Relation: "Physica Status Solidi C". ISSN 1610-1642. 8:3 (Jan. 2011) 846-849.; 1610-1642; http://onlinelibrary.wiley.com

الاتاحة: http://hdl.handle.net/1822/11846

المؤلفون: Fan Wang, Kyung Ho Kimu, Midori Kawamura, Takayuki Kiba, Yoshio Abe, 川村 みどり, 木場 隆之, 王 ハン, 金 敬鎬, 阿部 良夫

المصدر: JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2019, :1589

المؤلفون: Kyung Ho Kim, Midori Kawamura, Takayuki Kiba, Yoshio Abe, Yusuke Ito, 伊藤 勇佑, 川村 みどり, 木場 隆之, 金 敬鎬, 阿部 良夫

المصدر: JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2019, :1590

المؤلفون: Top, Michiel, Schoenfeld, Steffen, Fahlteich, John, Bunk, Sebastian, Kuehnel, Thomas, Straach, Steffen, De Hosson, Jeff T.

المصدر: Top , M , Schoenfeld , S , Fahlteich , J , Bunk , S , Kuehnel , T , Straach , S & De Hosson , J T 2017 , ' Hollow-cathode activated PECVD for the high-rate deposition of permeation barrier films ' , Surface & Coatings Technology , vol. 314 , no. Special ussue , pp. 155-159 . https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.09.003

مصطلحات موضوعية: WVTR, PECVD, ArcPECVD, High rate deposition, Hollow cathode, XRay reflectivity, CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION, LOW-TEMPERATURE PECVD, ORGANOSILICON FILMS, THIN-FILMS, SPECTROSCOPY, SPECTROMETRY, PLASMAS, SIO2

وصف الملف: application/pdf

الاتاحة: https://hdl.handle.net/11370/c7058785-32bf-4df9-b6d0-4c995c7c0524
https://research.rug.nl/en/publications/c7058785-32bf-4df9-b6d0-4c995c7c0524
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.09.003
https://pure.rug.nl/ws/files/78118029/Hollow_cathode_activated_PECVD_for_the_high_rate_deposition.pdf

المؤلفون: Сиделёв, Дмитрий Владимирович

المساهمون: Кривобоков, Валерий Павлович

مصطلحات موضوعية: магнетронное распыление, высокоскоростное осаждение, покрытия, хром, никель, magnetron sputtering, high rate deposition, coating, chrome, nickel, 03.06.01, 621.357.74:669.268:621.385.64

وصف الملف: application/pdf

Relation: Сиделёв Д. В. Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с «горячей» мишенью : научный доклад / Д. В. Сиделёв; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Управление магистратуры, аспирантуры и докторантуры (УМАД), Отдел аспирантуры и докторантуры (ОАиД); науч. рук. В. П. Кривобоков. — Томск, 2018.; http://earchive.tpu.ru/handle/11683/48614

الاتاحة: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/48614

المؤلفون: Hiroyasu KOJIMA, 小島 啓安

المصدر: 表面技術 / Journal of The Surface Finishing Society of Japan. 2017, 68(12):654

المؤلفون: Койшыбаева, Жанымгул Койшыбайкызы

المساهمون: Сиделёв, Дмитрий Владимирович

مصطلحات موضوعية: высокоскоростное осаждение покрытий, магнетронные распылительные системы, магнетронное распыление с высокой мощностью, хромовое покрытие, горячая мишень, high-rate deposition of films, magnetron sputtering system, magnetron sputtering with high power, chromium coatings, a hot target, 16.04.01, 538.975

وصف الملف: application/pdf

Relation: Койшыбаева Ж. К. Высокоскоростное осаждение плёнок хрома с помощью магнетронной распылительной системой с горячей мишенью : дипломный проект / Ж. К. Койшыбаева; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Физико-технический институт (ФТИ), Кафедра экспериментальной физики (ЭФ); науч. рук. Д. В. Сиделёв. — Томск, 2016.; http://earchive.tpu.ru/handle/11683/30090

الاتاحة: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/30090

المؤلفون: John Fahlteich, Steffen Schönfeld, Steffen Straach, Jeff Th. M. De Hosson, Sebastian Bunk, Thomas Kühnel, Michiel Top

المساهمون: Publica

المصدر: Surface & Coatings Technology, 314(Special ussue), 155-159. Elsevier Science

مصطلحات موضوعية: Hexamethyldisiloxane, Materials science, Scanning electron microscope, PECVD, Analytical chemistry, PLASMAS, Hollow cathode, 02 engineering and technology, Chemical vapor deposition, ORGANOSILICON FILMS, engineering.material, 01 natural sciences, chemistry.chemical_compound, THIN-FILMS, X-ray photoelectron spectroscopy, Coating, Plasma-enhanced chemical vapor deposition, 0103 physical sciences, Materials Chemistry, SIO2, Thin film, High-Rate-Deposition, WVTR, LOW-TEMPERATURE PECVD, 010302 applied physics, SPECTROSCOPY, XRay reflectivity, ArcPECVD, Surfaces and Interfaces, General Chemistry, High rate deposition, 021001 nanoscience & nanotechnology, Condensed Matter Physics, Surfaces, Coatings and Films, X-ray reflectivity, CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION, chemistry, SPECTROMETRY, engineering, 0210 nano-technology

وصف الملف: application/pdf

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::5b1370725ffa55f3f64d8bef6839d25b
https://research.rug.nl/en/publications/c7058785-32bf-4df9-b6d0-4c995c7c0524

المؤلفون: Hiroyasu KOJIMA, 小島 啓安

المصدر: 表面技術 / Journal of The Surface Finishing Society of Japan. 2016, 67(12):667

المؤلفون: Zhou, BQ, Zhu, MF, Liu, FZ, Liu, JL, Zhou, YQ, Li, GH, Ding, K, Zhou, BQ, Inner Mongolia Normal Univ, Coll Phys & Elect Informat, Hohhot 010022, Peoples R China. 电子邮箱地址: zhoubq@imnu.edu.cn

مصطلحات موضوعية: Radio-frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (Rf-pecvd), Microcrystalline Silicon Film, High Rate Deposition, 半导体材料

Relation: SCIENCE IN CHINA SERIES E-TECHNOLOGICAL SCIENCES; Zhou, BQ; Zhu, MF; Liu, FZ; Liu, JL; Zhou, YQ; Li, GH; Ding, K .High rate deposition of microcrystalline silicon films by high-pressure radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) ,SCIENCE IN CHINA SERIES E-TECHNOLOGICAL SCIENCES ,2008 ,51(4): 371-377; http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/6756

الاتاحة: http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/6756

المؤلفون: Galina Alekseevna Bleykher, Valeriy P. Krivobokov, Dmitrii V. Sidelev, A.O. Borduleva

المصدر: Acta Polytechnica, Vol 56, Iss 6, Pp 425-431 (2016)

مصطلحات موضوعية: Materials science, magnetron sputtering, business.industry, Direct current, hot target, General Engineering, Evaporation, Analytical chemistry, chemistry.chemical_element, Sputter deposition, Thermal conduction, evaporation, chemistry, Thermal insulation, lcsh:TA1-2040, Thermal, Cavity magnetron, Composite material, business, high rate deposition, lcsh:Engineering (General). Civil engineering (General), Titanium

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::cf70acd49dd85181901b1c6cc0dc51c2
https://ojs.cvut.cz/ojs/index.php/ap/article/view/3766

المؤلفون: Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi, Kiyoshi Yasutake, Kohei Okamura, Takahiro Yamada, Takayuki Sakaguchi, Weicheng Lin, 坂口 尭之, 垣内 弘章, 大参 宏昌, 安武 潔, 山田 高寛, 岡村 康平, 林 威成

المصدر: Proceedings of JSPE Semestrial Meeting. 2013, :565

المؤلفون: Hiroyasu KOJIMA, 小島 啓安

المصدر: 表面技術 / Journal of The Surface Finishing Society of Japan. 2013, 64(7):374