المؤلفون: Milaniak, Natalia, G, Laroche, Gaétan, Massines, Françoise

المساهمون: Procédés, Matériaux et Energie Solaire (PROMES), Université de Perpignan Via Domitia (UPVD)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), ANR-10-LABX-0022,SOLSTICE,Solar Energy, Science, Technology and Innovation for Energy Conversion(2010)

المصدر: ISSN: 1612-8850.

مصطلحات موضوعية: gas phase FTIR, plasma phase FTIR, mid-infrared, Frequency Shift Keying, double modulation, dielectric barrier discharge, nanoparticles, Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, [SPI]Engineering Sciences [physics]

الاتاحة: https://hal.science/hal-03413581
https://hal.science/hal-03413581v1/document
https://hal.science/hal-03413581v1/file/revised%20article%20%28without%20tracking%20changes%29.pdf
https://doi.org/10.1002/ppap.202000153

المؤلفون: Brandenburg, Ronny, Horn, Stefan, Krohmann, Udo, Rackow, Kristian, Uhrlandt, Dirk, Witt, Göran, Weltmann, Klaus-Dieter

مصطلحات موضوعية: Plasma technology, Atmospheric pressure plasma, Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (AP-PECV), Microwave plasma, Dielectric barrier discharge, Knowledge transfer, Technology transfer

Time: 620

وصف الملف: application/pdf

الاتاحة: https://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/1603

المؤلفون: Kuo, Y.-L., Chang, K.-H.

مصطلحات موضوعية: Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition, Corrosion, Magnesium alloys

وصف الملف: 177 bytes; text/html

Relation: Surface and Coatings Technology, Volume 283, Page: 194 - 200; http://ir.lib.ntust.edu.tw/handle/987654321/52918; http://ir.lib.ntust.edu.tw/bitstream/987654321/52918/1/index.html

الاتاحة: http://ir.lib.ntust.edu.tw/handle/987654321/52918
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2015.11.004
http://ir.lib.ntust.edu.tw/bitstream/987654321/52918/1/index.html

المؤلفون: Vandenabeele, Cédric

Thesis Advisors: Université de Lorraine, Belmonte, Thierry, Choquet, Patrick

مصطلحات موضوعية: Décharge à barrière diélectrique (DBD), Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à la pression atmosphérique (AP-PECVD), Couche mince organochlorée, Substrat cylindrique, Dépôt en continu, Préparation de surface, Adhésion caoutchouc / métal, Caractérisation de l'interface, Dielectric Barrier Discharge (DBD), Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (AP-PECVD), Organo-chlorinated thin film, Cylindrical substrate, Continuous deposition, Surface preparation, Rubber / metal adhesion, Interface characterization, 621.044, 530.44

الاتاحة: http://www.theses.fr/2014LORR0047/document

المؤلفون: Vandenabeele, Cédric

المساهمون: Institut Jean Lamour (IJL), Institut de Chimie - CNRS Chimie (INC-CNRS)-Université de Lorraine (UL)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université de Lorraine, Thierry Belmonte, Patrick Choquet

المصدر: https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750 ; Autre [cond-mat.other]. Université de Lorraine, 2014. Français. ⟨NNT : 2014LORR0047⟩.

مصطلحات موضوعية: Dielectric Barrier Discharge (DBD), Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (AP-PECVD), Organo-chlorinated thin film, Cylindrical substrate, Continuous deposition, Surface preparation, Rubber / metal adhesion, Interface characterization, Décharge à barrière diélectrique (DBD), Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à la pression atmosphérique (AP-PECVD), Couche mince organochlorée, Substrat cylindrique, Dépôt en continu, Préparation de surface, Adhésion caoutchouc / métal, Caractérisation de l'interface, Couches minces métalliques, Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma, Adhésion (physique), Surfaces (technologie) -- Analyse, [PHYS.COND.CM-GEN]Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]/Other [cond-mat.other], [SPI.OTHER]Engineering Sciences [physics]/Other

Relation: NNT: 2014LORR0047; tel-01750750; https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750; https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750/document; https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750/file/DDOC_T_2014_0047_VANDENABEELE.pdf

الاتاحة: https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750
https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750/document
https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750/file/DDOC_T_2014_0047_VANDENABEELE.pdf

المؤلفون: Vandenabeele, Cédric

المساهمون: Université de Lorraine, Belmonte, Thierry, Choquet, Patrick

مصطلحات موضوعية: Décharge à barrière diélectrique (DBD), Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à la pression atmosphérique (AP-PECVD), Couche mince organochlorée, Substrat cylindrique, Dépôt en continu, Préparation de surface, Adhésion caoutchouc / métal, Caractérisation de l'interface, Dielectric Barrier Discharge (DBD), Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (AP-PECVD), Organo-chlorinated thin film, Cylindrical substrate, Continuous deposition, Surface preparation, Rubber / metal adhesion, Interface characterization, 621.044, 530.44

Relation: http://www.theses.fr/2014LORR0047/document

الاتاحة: http://www.theses.fr/2014LORR0047/document

المؤلفون: 吳誌恩, Wu, Chih-En, 張國明, Chang, Kow-Ming

المساهمون: 電子工程學系 電子研究所

مصطلحات موضوعية: 雙層結構硒膜, 兩階段硒化, 銅銦鎵硒吸收層, 大氣電漿輔助化學相沉積, 太陽能電池, Bilayer Selenium Thin Films, Two-stage Selenization Process, atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition, CIGS absorber layers, CIGS Solar Cells

Relation: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT070050279; http://hdl.handle.net/11536/72722

الاتاحة: http://hdl.handle.net/11536/72722
http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT070050279

المؤلفون: Milaniak, Natalia, Laroche, Gaétan, Massines, Françoise

مصطلحات الفهرس: Atmospheric-pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition, Dielectric barrier discharge, Frequency-shift keying, IR spectroscopy, Nanoparticles, Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma, Nanoparticules, Spectroscopie infrarouge, Matériaux nanocomposites, Spectroscopie par transformée de Fourier, info:eu-repo/semantics/article, info:eu-repo/semantics/acceptedVersion

URL: http://hdl.handle.net/20.500.11794/69261
https://doi.org/10.1002/ppap.202000153
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1002/ppap.202000153
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/issn/1612-8850
https://doi.org/10.1002/ppap.202000153
Plasma processes and polymers, Vol. 18 (2), 1-12 (2020)