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1Conference
المؤلفون: Levi, S., Tiec, R. Le, Dupre, C., Vannuffel, C., Dewolf, T., Garcia, S., Millard, K., Meynard, B., Lee, Y., Colard, M., Dujaili, H. Al, Faugier-Tovar, J., Mizuno, Shinsuke
المساهمون: PDC business group, Applied Materials, University Grenoble Alpes, CEA, LETI, Minatec Campus, 17 avenue des martyrs, 38000 Grenoble, France (LETI), Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation (IMEP-LAHC), Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP)-Université Savoie Mont Blanc (USMB Université de Savoie Université de Chambéry )-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes 2016-2019 (UGA 2016-2019 ), Institut de Recherche en Informatique Mathématiques Automatique Signal - IRIMAS - UR 7499 (IRIMAS), Université de Haute-Alsace (UHA) Mulhouse - Colmar (Université de Haute-Alsace (UHA)), AMJ - Applied materials Japan
المصدر: ISSM 2022 - International Symposium on Semiconductor Manufacturing ; https://hal.science/hal-04785757 ; ISSM 2022 - International Symposium on Semiconductor Manufacturing, Dec 2022, Tokyo, Japan. pp.1-4, ⟨10.1109/ISSM55802.2022.10027161⟩ ; https://ieeexplore.ieee.org/document/10027161
مصطلحات موضوعية: [SPI.OPTI]Engineering Sciences [physics]/Optics / Photonic
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2Conference
المؤلفون: Le Royer, C., Mohamad, B., Biscarrat, J., Vauche, L., Escoffier, R., Buckley, J., Becu, S., Riat, R., Gillot, C., Charles, M., Ruel, S., Pimenta-Barros, P., Posseme, N., Besson, P., Boudaa, F., Vannuffel, C., Vandendaele, W., Viey, A.G., Krakovinsky, A., Jaud, M.-A., Modica, R., Iucolano, F., Tiec, R. Le, Levi, S., Orsatelli, M., Gwoziecki, R., Sousa, V.
المصدر: 2022 IEEE 34th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD)
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3Academic Journal
المؤلفون: Grenouillet, L., Bru-Chevallier, C., Guillot, G., Gilet, P., Duvaut, P., Vannuffel, C., Million, A., Chenevas-Paule, A.
المساهمون: Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), INL - Spectroscopies et Nanomatériaux (INL - S&N), Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL), École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Université de Lyon-Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-École Supérieure de Chimie Physique Électronique de Lyon (CPE)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Département d'Optronique (DOPT), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Equipes Traitement de l'Information et Systèmes (ETIS - UMR 8051), Ecole Nationale Supérieure de l'Electronique et de ses Applications (ENSEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-CY Cergy Paris Université (CY)
المصدر: ISSN: 0003-6951.
مصطلحات موضوعية: [SPI]Engineering Sciences [physics], [SPI.MAT]Engineering Sciences [physics]/Materials, [SPI.OPTI]Engineering Sciences [physics]/Optics / Photonic
Relation: hal-01928830; https://hal.science/hal-01928830; https://hal.science/hal-01928830/document; https://hal.science/hal-01928830/file/L%20Grenouillet%20Evidence%20of%20strong%20carrier%20localization%20below%20100%20K%20in%20a%20GaInNAsGaAs%20single%20quantum1.pdf
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4Conference
المؤلفون: Figueiro, T., Browning, C., Thornton, M.J., Vannuffel, C., Hoon Choi, K., Hohle, C., Tortai, J.-H., Schiavone, P.
Time: 621
Relation: European Mask and Lithography Conference (EMLC) 2013; 29th European Mask and Lithography Conference. Proceedings; https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/383206
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5Conference
المؤلفون: Jouve, A., Simon, J., Pikon, A., Solak, H., Vannuffel, C., Tortai, J.-H.
المساهمون: Lin, Qinghuang
المصدر: SPIE Proceedings ; Advances in Resist Technology and Processing XXIII ; ISSN 0277-786X
الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1117/12.656400
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6Conference
المؤلفون: Farys, V., Schiavone, P., Polack, F., Vannuffel, C., Quesnel, E., Bertolo, M.
المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
المصدر: 2nd International EUV lithography Symposium
https://hal.science/hal-00486449
2nd International EUV lithography Symposium, 2003, Antwerp, Belgiumالاتاحة: https://hal.science/hal-00486449
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7Conference
المؤلفون: Farys, V., Vannuffel, C., Quesnel, E., Muffato, V., Besson, P., Idir, M., Bertolo, M., Bianco, A., La Rosa, S., Polack, F.
المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
المصدر: 7th International Conference on X-Ray Microscopy, XRM
https://hal.science/hal-00486213
7th International Conference on X-Ray Microscopy, XRM, 2002, grenoble, FranceRelation: hal-00486213; https://hal.science/hal-00486213
الاتاحة: https://hal.science/hal-00486213
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8Conference
المؤلفون: Hue, J., Quesnel, E., Schiavone, P., Muffato, V., Vannuffel, C., Robic, J.y
المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)
المصدر: 3rd International Workshop on EUV Lithography
https://hal.science/hal-00486163
3rd International Workshop on EUV Lithography, 2001, Matsue, Japanالاتاحة: https://hal.science/hal-00486163
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9Academic Journal
المؤلفون: Ferrieu, F., Novikova, T., Fallet, C., Ben Hatit, S., Vannuffel, C., De Martino, A.
المساهمون: French National Agency for Research
المصدر: Thin Solid Films ; volume 519, issue 9, page 2608-2612 ; ISSN 0040-6090
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10Academic Journal
المؤلفون: Farys, V., Schiavone, P., Polack, F., Idir, M., Bertolo, M., Bianco, A., La Rosa, S., Cautero, G., Vannuffel, C., Quesnel, E., Muffato, V.
المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)
المصدر: ISSN: 0003-6951.
Relation: hal-00394485; https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00394485
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11Academic Journal
المؤلفون: Farys, V., Schiavone, P., Polack, F., Idir, M., Bertolo, M., Bianco, A., La Rosa, S., Cautero, G., Vannuffel, C., Quesnel, E., Muffato, V.
المصدر: Applied Physics Letters ; volume 87, issue 2 ; ISSN 0003-6951 1077-3118
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12Academic Journal
المؤلفون: Borsoni, G, Le Roux, V, Laffitte, R, Kerdilès, S, Béchu, N, Vallier, L, Korwin-Pawlowski, M.L, Vannuffel, C, Bertin, F, Vergnaud, C, Chabli, A, Wyon, C
المصدر: Solid-State Electronics ; volume 46, issue 11, page 1855-1862 ; ISSN 0038-1101
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13Academic Journal
المؤلفون: Ermolieff, A., Chabli, A., Pierre, F., Rolland, G., Rouchon, D., Vannuffel, C., Vergnaud, C., Baylet, J., Séméria, M. N.
المصدر: Surface and Interface Analysis ; volume 31, issue 3, page 185-190 ; ISSN 0142-2421 1096-9918
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14Academic Journal
المؤلفون: Gilet, P., Chenevas-Paule, A., Duvaut, P., Grenouillet, L., Holliger, P., Million, A., Rolland, G., Vannuffel, C.
المصدر: physica status solidi (a) ; volume 176, issue 1, page 279-283 ; ISSN 0031-8965 1521-396X
الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1002/(sici)1521-396x(199911)176:1%3C279::aid-pssa279%3E3.0.co%3B2-z
https://api.wiley.com/onlinelibrary/tdm/v1/articles/10.1002%2F(SICI)1521-396X(199911)176:1%3C279::AID-PSSA279%3E3.0.CO%3B2-Z
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/(SICI)1521-396X(199911)176:1%3C279::AID-PSSA279%3E3.0.CO%3B2-Z -
15Academic Journal
المؤلفون: Méchin, L., Chabli, A., Bertin, F., Burdin, M., Rolland, G., Vannuffel, C., Villégier, J.-C.
المصدر: Journal of Applied Physics ; volume 84, issue 9, page 4935-4940 ; ISSN 0021-8979 1089-7550
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16Academic Journal
المؤلفون: Zanatta, J. P., Duvaut, P., Ferret, P., Million, A., Destefanis, G., Rambaud, P., Vannuffel, C.
المصدر: Applied Physics Letters ; volume 71, issue 20, page 2984-2986 ; ISSN 0003-6951 1077-3118
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17Academic Journal
المؤلفون: Pescher, C., Pierre, J., Ermolieff, A., Vannuffel, C.
المصدر: Thin Solid Films ; volume 278, issue 1-2, page 140-143 ; ISSN 0040-6090
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18Academic Journal
المؤلفون: Pescher, C., Pierre, J., Ermolieff, A., Vannuffel, C.
المصدر: MRS Proceedings ; volume 384 ; ISSN 0272-9172 1946-4274
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19Academic Journal
المؤلفون: Vannuffel, C., Schiller, C., Chevalier, J. P.
المصدر: Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America ; volume 48, issue 4, page 592-593 ; ISSN 0424-8201 2690-1315
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20Academic Journal
المؤلفون: Loup, V., Hartmann, J. M., Rolland, G., Holliger, P., Laugier, F., Vannuffel, C., Séméria, M. N.
المصدر: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2002, Vol. 20 Issue 3, p1048-1054, 7p