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  1. 1
    Conference

    المساهمون: PDC business group, Applied Materials, University Grenoble Alpes, CEA, LETI, Minatec Campus, 17 avenue des martyrs, 38000 Grenoble, France (LETI), Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation (IMEP-LAHC), Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP)-Université Savoie Mont Blanc (USMB Université de Savoie Université de Chambéry )-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes 2016-2019 (UGA 2016-2019 ), Institut de Recherche en Informatique Mathématiques Automatique Signal - IRIMAS - UR 7499 (IRIMAS), Université de Haute-Alsace (UHA) Mulhouse - Colmar (Université de Haute-Alsace (UHA)), AMJ - Applied materials Japan

    المصدر: ISSM 2022 - International Symposium on Semiconductor Manufacturing ; https://hal.science/hal-04785757 ; ISSM 2022 - International Symposium on Semiconductor Manufacturing, Dec 2022, Tokyo, Japan. pp.1-4, ⟨10.1109/ISSM55802.2022.10027161⟩ ; https://ieeexplore.ieee.org/document/10027161

    جغرافية الموضوع: Tokyo, Japan

  2. 2
    Conference
  3. 3
    Academic Journal

    المساهمون: Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), INL - Spectroscopies et Nanomatériaux (INL - S&N), Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL), École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Université de Lyon-Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL), Université de Lyon-École Supérieure de Chimie Physique Électronique de Lyon (CPE)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Département d'Optronique (DOPT), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Equipes Traitement de l'Information et Systèmes (ETIS - UMR 8051), Ecole Nationale Supérieure de l'Electronique et de ses Applications (ENSEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-CY Cergy Paris Université (CY)

    المصدر: ISSN: 0003-6951.

  4. 4
    Conference
  5. 5
    Conference

    المساهمون: Lin, Qinghuang

    المصدر: SPIE Proceedings ; Advances in Resist Technology and Processing XXIII ; ISSN 0277-786X

  6. 6
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

    المصدر: 2nd International EUV lithography Symposium
    https://hal.science/hal-00486449
    2nd International EUV lithography Symposium, 2003, Antwerp, Belgium

    جغرافية الموضوع: Antwerp, Belgium

  7. 7
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

    المصدر: 7th International Conference on X-Ray Microscopy, XRM
    https://hal.science/hal-00486213
    7th International Conference on X-Ray Microscopy, XRM, 2002, grenoble, France

    جغرافية الموضوع: grenoble, France

    Relation: hal-00486213; https://hal.science/hal-00486213

  8. 8
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)

    المصدر: 3rd International Workshop on EUV Lithography
    https://hal.science/hal-00486163
    3rd International Workshop on EUV Lithography, 2001, Matsue, Japan

    جغرافية الموضوع: Matsue, Japan

  9. 9
    Academic Journal
  10. 10
    Academic Journal

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)

    المصدر: ISSN: 0003-6951.

  11. 11
    Academic Journal
  12. 12
    Academic Journal
  13. 13
    Academic Journal
  14. 14
    Academic Journal

    المصدر: physica status solidi (a) ; volume 176, issue 1, page 279-283 ; ISSN 0031-8965 1521-396X

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1002/(sici)1521-396x(199911)176:1%3C279::aid-pssa279%3E3.0.co%3B2-z
    https://api.wiley.com/onlinelibrary/tdm/v1/articles/10.1002%2F(SICI)1521-396X(199911)176:1%3C279::AID-PSSA279%3E3.0.CO%3B2-Z
    https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/(SICI)1521-396X(199911)176:1%3C279::AID-PSSA279%3E3.0.CO%3B2-Z

  15. 15
    Academic Journal
  16. 16
    Academic Journal
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    Academic Journal
  18. 18
    Academic Journal
  19. 19
    Academic Journal
  20. 20
    Academic Journal

    المصدر: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2002, Vol. 20 Issue 3, p1048-1054, 7p