المؤلفون: Xia, B., Ganem, J.J., J, Steydli, S., Tancrez, H., Vickridge, Ian

المساهمون: SAFIR - Système d'Analyse par Faisceaux d'Ions Rapides, Couches nanométriques : formation, interfaces, défauts (INSP-E5), Institut des Nanosciences de Paris (INSP), Sorbonne Université (SU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Sorbonne Université (SU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut des Nanosciences de Paris (INSP), Sorbonne Université (SU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Sorbonne Université (SU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Sorbonne Université (SU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

المصدر: ISSN: 0168-583X.

مصطلحات موضوعية: Atomic Layer Deposition (ALD), Thin films, multilayer, RBS, [PHYS]Physics [physics]

Relation: hal-03264045; https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03264045; https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03264045/document; https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03264045/file/Xia%20et%20al.%20-%202021%20-%20RBS%20and%20NRA%20analysis%20for%20films%20with%20high%20growth%20ra.pdf

الاتاحة: https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03264045
https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03264045/document
https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03264045/file/Xia%20et%20al.%20-%202021%20-%20RBS%20and%20NRA%20analysis%20for%20films%20with%20high%20growth%20ra.pdf
https://doi.org/10.1016/j.nimb.2020.12.015

المؤلفون: Xia, B., Ganem, J.J., Briand, E., Steydli, S., Tancrez, H., Vickridge, Ian

المساهمون: Institut des Nanosciences de Paris (INSP), Sorbonne Université (SU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), SAFIR - Système d'Analyse par Faisceaux d'Ions Rapides, Couches nanométriques : formation, interfaces, défauts (INSP-E5), Sorbonne Université (SU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Sorbonne Université (SU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut des Nanosciences de Paris (INSP), Sorbonne Université (SU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Sorbonne Université (SU)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Sorbonne Université (SU)

المصدر: ISSN: 0042-207X ; Vacuum ; https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03329971 ; Vacuum, 2021, 190, pp.110289. ⟨10.1016/j.vacuum.2021.110289⟩.

مصطلحات موضوعية: Atomic Layer Deposition (ALD), ZnO thin films, Ion beam analysis (IBA), [CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry

Relation: hal-03329971; https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03329971; https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03329971/document; https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03329971/file/Xia%20et%20al.%20-%202021%20-%20The%20carbon%20and%20hydrogen%20contents%20in%20ALD-grown%20ZnO%20.pdf

الاتاحة: https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03329971
https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03329971/document
https://hal.sorbonne-universite.fr/hal-03329971/file/Xia%20et%20al.%20-%202021%20-%20The%20carbon%20and%20hydrogen%20contents%20in%20ALD-grown%20ZnO%20.pdf
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110289