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المؤلفون: Austgen, Michael
المساهمون: Wuttig, Matthias
المصدر: Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University V, 176, I-XXI, S. : Ill., graph. Darst. (2011). = Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011
مصطلحات موضوعية: Physik, co-sputtering, sputter yield amplification, Reaktives Sputtern, ddc:530, Serielles Co-Sputtern, Ratenverstärkung, serial co-sputtering, Co-Sputtern, Co-Dotierung, rate enhancement