يعرض 1 - 20 نتائج من 127 نتيجة بحث عن '"Rossnagel, S. M."', وقت الاستعلام: 0.65s تنقيح النتائج
  1. 1
    Report
    Pathway to the PiezoElectronic Transduction Logic Device

    المؤلفون: Solomon, P. M., Bryce, B. A., Kuroda, M. A., Keech, R., Shett, S., Shaw, T. M., Copel, M., Hung, L. -W., Schrott, A. G., Armstrong, C., Gordon, M. S., Reuter, K. B., Theis, T. N., Haensch, W., Rossnagel, S. M., Miyazoe, H., Elmegreen, B. G., Liu, X. -H., Trolier-McKinstry, S., Martyna, G. J, Newns, D. M.

    مصطلحات موضوعية: Condensed Matter - Materials Science

    URL الوصول: http://arxiv.org/abs/1503.07467

    View record in Arxiv

    أضف إلى المفضلة
  2. 2
    Academic Journal
    Robust TaNx diffusion barrier for Cu-interconnect technology with subnanometer thickness by metal-organic plasma-enhanced atomic layer deposition.

    المؤلفون: Kim, H., Detavenier, C., van der Straten, O., Rossnagel, S. M., Kellock, A. J., Park, D.-G.

    المصدر: Journal of Applied Physics; 7/1/2005, Vol. 98 Issue 1, p014308, 8p, 4 Black and White Photographs, 5 Graphs

    مصطلحات موضوعية: HYDROGEN, NITROGEN plasmas, PLASMA gases, IONIZED gases, MICROSTRUCTURE, CONSTITUTION of matter


    أضف إلى المفضلة
  3. 3
    Academic Journal
    Growth of cubic-TaN thin films by plasma-enhanced atomic layer deposition.

    المؤلفون: Kim, H., Kellock, A. J., Rossnagel, S. M.

    المصدر: Journal of Applied Physics; 12/15/2002, Vol. 92 Issue 12, p7080, 6p, 8 Graphs

    مصطلحات موضوعية: THIN films, TANTALUM, NITROGEN


    أضف إلى المفضلة
  4. 4
    Conference
    200 mm wafer-scale integration of sub-20 nm sacrificial nanofluidic channels for manipulating and imaging single DNA molecules

    المؤلفون: Wang, C., Nam, S. W., Cotte, J. M., Peng, H., Jahnes, C. V., Wang, D., Bruce, R., Guillorn, M., Gignac, L. M., Advocate, W. H., Breslin, C. M., Brink, M., Bucchignano, J., Duch, E. A., Galan, A., Kratschmer, E., Litwinowicz, P. J., Lofaro, M. F., Price, W., Rossnagel, S. M., Goldblatt, R. D., Joseph, E. A., Pfeiffer, D., Rao, S. Papa, Royyuru, A., Stolovitzky, G. A., Colgan, E. G., Lin, Q., Polonsky, S.

    المصدر: 2013 IEEE International Electron Devices Meeting ; page 14.1.1-14.1.4

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1109/iedm.2013.6724627
    http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/6709840/6724533/06724627.pdf?arnumber=6724627

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  5. 5
    Academic Journal
    Measured radial and angular distributions of sputtered atoms in a planar magnetron discharge.

    المؤلفون: Turner, G. M., Rossnagel, S. M., Cuomo, J. J.

    المصدر: Journal of Applied Physics. 4/1/1994, Vol. 75 Issue 7, p3611. 8p. 1 Diagram, 9 Graphs.

    مصطلحات موضوعية: *SPUTTERING (Physics), *ELECTRIC fields, *MAGNETIC fields


    أضف إلى المفضلة
  6. 6
    Academic Journal
    Giant Piezoresistive On/Off Ratios in Rare-Earth Chalcogenide Thin Films Enabling Nanomechanical Switching

    المؤلفون: Copel, M., Kuroda, M. A., Gordon, M. S., Liu, X.-H., Mahajan, S. S., Martyna, G. J., Moumen, N., Armstrong, C., Rossnagel, S. M., Shaw, T. M., Solomon, P. M., Theis, T. N., Yurkas, J. J., Zhu, Y., Newns, D. M.

    المصدر: Nano Letters ; volume 13, issue 10, page 4650-4653 ; ISSN 1530-6984 1530-6992

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1021/nl401710f
    https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/nl401710f

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  7. 7
    Academic Journal
    Sub-10-nm Nanochannels by Self-Sealing and Self-Limiting Atomic Layer Deposition

    المؤلفون: Nam, Sung-Wook, Lee, Min-Hyun, Lee, Seung-Hyun, Lee, Do-Joong, Rossnagel, S. M., Kim, Ki-Bum

    المصدر: Nano Letters ; volume 10, issue 9, page 3324-3329 ; ISSN 1530-6984 1530-6992

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1021/nl100999e
    https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/nl100999e

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  8. 8
    Academic Journal
    Evidence for segregation of Te in Ge2Sb2Te5 films: Effect on the “phase-change” stress

    المؤلفون: Krusin-Elbaum, L., Cabral, C., Chen, K. N., Copel, M., Abraham, D. W., Reuter, K. B., Rossnagel, S. M., Bruley, J., Deline, V. R.

    المصدر: Applied Physics Letters ; volume 90, issue 14 ; ISSN 0003-6951 1077-3118

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1063/1.2719148
    https://pubs.aip.org/aip/apl/article-pdf/doi/10.1063/1.2719148/13473262/141902_1_online.pdf

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  9. 9
    Academic Journal
    Robust TaNx diffusion barrier for Cu-interconnect technology with subnanometer thickness by metal-organic plasma-enhanced atomic layer deposition

    المؤلفون: Kim, H., Detavenier, C., van der Straten, O., Rossnagel, S. M., Kellock, A. J., Park, D.-G.

    المصدر: Journal of Applied Physics ; volume 98, issue 1 ; ISSN 0021-8979 1089-7550

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1063/1.1935761
    https://pubs.aip.org/aip/jap/article-pdf/doi/10.1063/1.1935761/14959140/014308_1_online.pdf

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  10. 10
    Academic Journal
    The physical properties of cubic plasma-enhanced atomic layer deposition TaN films

    المؤلفون: Kim, H., Lavoie, C., Copel, M., Narayanan, V., Park, D.-G., Rossnagel, S. M.

    المصدر: Journal of Applied Physics ; volume 95, issue 10, page 5848-5855 ; ISSN 0021-8979 1089-7550

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1063/1.1704863
    https://pubs.aip.org/aip/jap/article-pdf/95/10/5848/18708358/5848_1_online.pdf

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  11. 11
    Book
    Plasma Sputter Deposition Systems: Plasma Generation, Basic Physics and Characterization

    المؤلفون: Rossnagel, S. M.

    المصدر: Multicomponent and Multilayered Thin Films for Advanced Microtechnologies: Techniques, Fundamentals and Devices ; page 1-20 ; ISBN 9789401047579 9789401117272

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1007/978-94-011-1727-2_1
    http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-94-011-1727-2_1

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  12. 12
    Book
    Use of plasmas in deposition technologies

    المؤلفون: Rossnagel, S. M.

    المصدر: Advanced Surface Coatings: a Handbook of Surface Engineering ; page 14-40 ; ISBN 9789401053525 9789401130400

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1007/978-94-011-3040-0_2
    http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-94-011-3040-0_2

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  13. 13
    Academic Journal
    Fabrication and Performance Limits of Sub-0.1 µm Cu Interconnects

    المؤلفون: Kuan, T. S., Inoki, C. K., Oehrlein, G. S., Rose, K., Zhao, Y. –P., Wang, G. –C., Rossnagel, S. M., Cabral, C.

    المصدر: MRS Proceedings ; volume 612 ; ISSN 0272-9172 1946-4274

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1557/proc-612-d7.1.1
    https://www.cambridge.org/core/services/aop-cambridge-core/content/view/S1946427400598054

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  14. 14
    Academic Journal
    Properties and Decomposition Behaviors of Reactively Sputtered Pt(O) Electrode Materials

    المؤلفون: Saenger, K. L., Rossnagel, S. M.

    المصدر: MRS Proceedings ; volume 596 ; ISSN 0272-9172 1946-4274

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1557/proc-596-57
    https://www.cambridge.org/core/services/aop-cambridge-core/content/view/S1946427400203187

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  15. 15
    Academic Journal
    Thermal stability and oxygen-loss characteristics of Pt(O) films prepared by reactive sputtering

    المؤلفون: Saenger, K. L., Cabral, C., Lavoie, C., Rossnagel, S. M.

    المصدر: Journal of Applied Physics ; volume 86, issue 11, page 6084-6087 ; ISSN 0021-8979 1089-7550

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1063/1.371718
    https://pubs.aip.org/aip/jap/article-pdf/86/11/6084/18980124/6084_1_online.pdf

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  16. 16
    Academic Journal
    Extendibility of Cu Damascene to 0.1 μm Wide Interconnections

    المؤلفون: Hu, C-K., Lee, K. Y., Gignac, L., Rossnagel, S. M., Uzoh, C., Chan, K., Roper, P., Harper, J. M. E.

    المصدر: MRS Proceedings ; volume 514 ; ISSN 0272-9172 1946-4274

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1557/proc-514-287
    https://www.cambridge.org/core/services/aop-cambridge-core/content/view/S1946427400257072

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  17. 17
    Academic Journal
    The time development of impurity-generated sputter cones on copper

    المؤلفون: Rossnagel, S. M., Robinson, R. S.

    المصدر: Radiation Effects ; volume 58, issue 1-2, page 11-16 ; ISSN 0033-7579

    الاتاحة: https://doi.org/10.1080/01422448108226522
    http://www.tandfonline.com/doi/pdf/10.1080/01422448108226522

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  18. 18
    Academic Journal
    Crystalline aspects of impurity generated sputter cones

    المؤلفون: Floro, J. A., Rossnagel, S. M., Robinson, R. S.

    المصدر: Radiation Effects ; volume 68, issue 2, page 57-61 ; ISSN 0033-7579

    الاتاحة: https://doi.org/10.1080/01422448208226909
    http://www.tandfonline.com/doi/pdf/10.1080/01422448208226909

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  19. 19
    Academic Journal
    Magnetron sputter deposition with high levels of metal ionization

    المؤلفون: Rossnagel, S. M., Hopwood, J.

    المصدر: Applied Physics Letters ; volume 63, issue 24, page 3285-3287 ; ISSN 0003-6951 1077-3118

    الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1063/1.110176
    https://pubs.aip.org/aip/apl/article-pdf/63/24/3285/18499955/3285_1_online.pdf

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
  20. 20
    Report
    Stress Measurement by Geometrical Optics

    المؤلفون: Robinson, R. S, Rossnagel, S. M

    المصدر: NASA Tech Briefs. 10(2)

    مصطلحات موضوعية: Mechanics

    URL الوصول: https://ntrs.nasa.gov/citations/19860000166

    View record in NASA Technical Reports

    أضف إلى المفضلة
أدوات البحث: أحصل على تغذية RSS – أرسل هذا البحث بالبريد الإلكتروني – حفظ البحث – جدول التنبيهات: لا شيء