المؤلفون: Su, Yi-Huan, Chiang, Fu-Cheng, Chang, Cheng-Chien, Lin, Shun-Te, Chen, Ching-Tai, Chen, Tse-Wei, Chen, Shen-Ming

المصدر: International Journal of Electrochemical Science ; volume 15, issue 5, page 3856-3868 ; ISSN 1452-3981

الاتاحة: http://dx.doi.org/10.20964/2020.05.01
https://api.elsevier.com/content/article/PII:S1452398123085784?httpAccept=text/xml
https://api.elsevier.com/content/article/PII:S1452398123085784?httpAccept=text/plain
http://www.electrochemsci.org/papers/vol15/150503856.pdf

المؤلفون: CHIANG Fu-cheng, CHANG Graham, LIN Shun-te

المصدر: Electroplating & Finishing; 2021, Vol. 40 Issue 7, p572-578, 7p

المؤلفون: Lin, Shun-Te, 林順得

Thesis Advisors: Huang, Yuan-Ching, Lin, Jing -Tao, 黃元慶, 林景濤

وصف الملف: 118

الاتاحة: http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/79258913957452758271

المؤلفون: Lin,Shun-Te, 林順德

Thesis Advisors: Tsai,Chi-Ching, 蔡啟清

وصف الملف: 204

الاتاحة: http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/15439804001264277974