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1Dissertation/ Thesis
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2Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Harland, Malte
مصطلحات موضوعية: 530 Physik, 33.60 Kondensierte Materie: Allgemeines, Supraleiter, Magnetismus, Elektronenstruktur, Hubbard-Modell, Computerphysik, Theoretische Physik, Übergangsmetall, Kupferoxide, ddc:530
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3Academic Journal
المؤلفون: Dhakal, Dileep, Waechtler, Thomas, E. Schulz, Stefan, Gessner, Thomas, Lang, Heinrich, Mothes, Robert, Tuchscherer, Andre
Thesis Advisors: Fraunhofer ENAS
مصطلحات موضوعية: info:eu-repo/classification/ddc/540, ddc:540, info:eu-repo/classification/ddc/620, ddc:620, Atomlagenabscheidung, Kupferoxide, Oberflächenchemie, Cu2O, Atomic force microscopy (AFM), Atomic layer deposition (ALD), Atomic concentration, Copper oxide, Cu(I) β diketonate, Cu precursor, In-situ X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Surface chemistry, Thermal disproportionation, Auger parameter
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4
المؤلفون: Rau, Julia S.
المساهمون: Gumbsch, P.
مصطلحات موضوعية: Diffusion, Kupfer, Tribooxidation, Kupferoxide, ddc:620, Saphir, Tribologie, Engineering & allied operations
وصف الملف: application/pdf
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5Academic Journal
المؤلفون: Waechtler, Thomas, Roth, Nina, Mothes, Robert, Schulze, Steffen, Schulz, Stefan E., Gessner, Thomas, Lang, Heinrich, Hietschold, Michael
المصدر: ECS Transactions, Vol. 25, No. 4, pp. 277-287 (2009); Digital Object Identifier (DOI): 10.1149/1.3205062
مصطلحات موضوعية: info:eu-repo/classification/ddc/620, ddc:620, info:eu-repo/classification/ddc/660, ddc:660, info:eu-repo/classification/ddc/530, ddc:530, Atomschichtepitaxie, Ausgangsmaterial, Beschichten, Diketonate
, Durchstrahlungselektronenmikroskopie, Dünne Schicht, Ellipsometrie, Kraftmikroskopie, Kupferkomplexe, Kupferoxide, Nanopartikel, Nanotechnologie, Schichtwachstum, Siliciumdioxid, Tantalnitride, Atomic Layer Deposition (ALD), Copper oxide, Kupfer(I) -
6Academic Journal
المؤلفون: Waechtler, Thomas, Oswald, Steffen, Roth, Nina, Jakob, Alexander, Lang, Heinrich, Ecke, Ramona, Schulz, Stefan E., Gessner, Thomas, Moskvinova, Anastasia, Schulze, Steffen, Hietschold, Michael
المصدر: Journal of The Electrochemical Society, Vol. 156, No. 6, pp. H453-H459 (2009); Digital Object Identifier (DOI): 10.1149/1.3110842
مصطلحات موضوعية: info:eu-repo/classification/ddc/540, ddc:540, info:eu-repo/classification/ddc/530, ddc:530, info:eu-repo/classification/ddc/620, ddc:620, info:eu-repo/classification/ddc/660, ddc:660, Atomschichtepitaxie, Dampfdruckkurve, Diffusionsbarriere, Diketonate
, Durchstrahlungselektronenmikroskopie, Elektronen-Energieverlustspektroskopie, Elektronenbeugung, Ellipsometrie, Kraftmikroskopie, Kupferkomplexe, Kupferoxide, Metallisieren, Metallisierungsschicht, Phosphane, Rasterelektronenmikroskop, Ruthenium, Röntgen-Photoelektronenspektroskopie, Siliciumdioxid, Tantal, Tantalnitride, ULSI, Atomic Layer Deposition (ALD), Atomic force microscopy (AFM), Beta-Diketonate, Copper Oxide, Copper(I), Damascene, Diffusion Barrier, Electron diffraction, Electron energy loss spectroscopy (EELS), Interconnect, Metallization, Scanning electron microscopy (SEM), Silicon Oxide, Spectroscopic ellipsometry, Tantalum, Tantalum Nitride, Transmission electron microscopy (TEM), Vapor Pressure, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) -
7Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Kaur, Jatinder
المساهمون: Bertagnolli, Emmerich, TU Wien, Österreich
مصطلحات موضوعية: Solarzelle, Kupferoxide, Absorber, Galvanische Abscheidung, Zinkoxid, Magnesiumoxid, Puffersubstanz, Atomlagenabscheidung
وصف الملف: 143 Seiten
Relation: https://doi.org/10.34726/hss.2018.57800; http://hdl.handle.net/20.500.12708/7652; AC15097208; urn:nbn:at:at-ubtuw:1-113871
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8
المؤلفون: Chen, Ying-Hsuan (M. Sc.)
مصطلحات موضوعية: ddc:540, Elektrochemie, Passivierung, Metalloberfläche, Kupferoxide, Grenzflächenchemie
وصف الملف: application/pdf
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9Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Harland, Malte
المساهمون: Lichtenstein, Alexander I. (Prof. Dr.)
مصطلحات موضوعية: 530 Physik, 33.60 Kondensierte Materie: Allgemeines, Supraleiter, Magnetismus, Elektronenstruktur, Hubbard-Modell, Computerphysik, Theoretische Physik, Übergangsmetall, Kupferoxide, ddc:530
Relation: http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:18-104323; https://ediss.sub.uni-hamburg.de/handle/ediss/6265
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10Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Giar, Marcel
مصطلحات موضوعية: Kupferoxide, Gitterdynamik, Ramanspektroskopie, Dichtefunktionaltheorie, copper oxides, lattice dynamics, Raman spectroscopy, density functional theory, ddc:530
وصف الملف: application/pdf
Relation: http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:hebis:26-opus-133762; https://jlupub.ub.uni-giessen.de//handle/jlupub/10378; http://dx.doi.org/10.22029/jlupub-9762
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11Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Graubner, Swen
مصطلحات موضوعية: Kupferoxide, Sputterdeposition, CuO, Cu2O, Heterostruktur, copper oxides, heterostructure, ddc:530
وصف الملف: application/pdf
Relation: http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:hebis:26-opus-77472; https://jlupub.ub.uni-giessen.de//handle/jlupub/10214; http://dx.doi.org/10.22029/jlupub-9598
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12Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Dhakal, Dileep
Thesis Advisors: Schulz, Stefan E., Lang, Heinrich, Technische Universität Chemnitz
مصطلحات موضوعية: info:eu-repo/classification/ddc/530, ddc:530, info:eu-repo/classification/ddc/620, ddc:620, Kupfer, Kupferoxide, Metallisierungsschicht, Reduktion, ULSI, Atomlagenabscheidung (ALD), Kupferoxid (Cu2O), Kupfer, Ruthenium, Oberflächenchemie, Röntgenphotoelektronspektroskopie (XPS), Niederenergetische Ionenstreuspektroskopie (LEIS) und Rasterkraftmikroskopie (AFM), Atomic Layer Deposition (ALD), Cuprous Oxide (Cu2O), Copper, Ruthenium, Surface chemistry, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Low energy ion scattering (LEIS), and Atomic force microscopy (AFM)
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13
المؤلفون: Giar, Marcel
المساهمون: Institut für Theoretische Physik
مصطلحات موضوعية: Ramanspektroskopie, copper oxides, Physics, Dichtefunktionaltheorie, Raman spectroscopy, ddc:530, Kupferoxide, Gitterdynamik, lattice dynamics, density functional theory
وصف الملف: application/pdf
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14
المؤلفون: Dhakal, Dileep
المساهمون: Schulz, Stefan E., Lang, Heinrich, Wächtler, Thomas, Zschenderlein, Uwe, Technische Universität Chemnitz
مصطلحات موضوعية: Atomlagenabscheidung (ALD), Kupferoxid (Cu2O), Kupfer, Ruthenium, Oberflächenchemie, Röntgenphotoelektronspektroskopie (XPS), Niederenergetische Ionenstreuspektroskopie (LEIS) und Rasterkraftmikroskopie (AFM), Kupfer, Kupferoxide, Metallisierungsschicht, Reduktion, ULSI, ddc:621.3, ddc:540, Atomic Layer Deposition (ALD), Cuprous Oxide (Cu2O), Copper, Ruthenium, Surface chemistry, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Low energy ion scattering (LEIS), and Atomic force microscopy (AFM), ddc:530, ddc:620, Atomlagenabscheidung (ALD), Kupferoxid (Cu2O), Kupfer, Ruthenium, Öberflächenchemie, Röntgenphotoelektronspektroskopie (XPS), Niederenergetische Ionenstreuspektroskopie (LEIS) und Rasterkraftmikroskopie (AFM), Integrierte Schaltung, Reduction, Precursor
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15Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Tanvir, Nauman Bin
مصطلحات موضوعية: Gassensor, Kelvin-Sonde, Metalloxid-Gassensor, Kupferoxide, Austrittsarbeit, Kohlendioxid, Sensortechnik, Sensitivität, Stabilität, Selektivität, Chemische Reaktion
وصف الملف: pdf
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المؤلفون: Imtiaz, Qasim
المساهمون: Dennis, J.S., Müller, Christoph R.
مصطلحات موضوعية: ADSORBENTS AND POROUS MATERIALS (TECHNICAL CHEMISTRY), KUPFEROXIDE (ANORGANISCHE CHEMIE), REACTION MECHANISMS + REACTIVITY (CHEMICAL KINETICS), COPPER OXIDES (INORGANIC CHEMISTRY), KOHLENSTOFFDIOXIDSEQUESTRATION + KÜNSTLICHE KOHLENSTOFFDIOXIDSENKE (GEOCHEMIE), ÜBERGANGSMETALLOXIDE (ANORGANISCHE CHEMIE), TRANSITION METAL OXIDES (INORGANIC CHEMISTRY), REDOXREAKTIONEN (CHEMISCHE REAKTIONEN), REDOX REACTIONS (CHEMICAL REACTIONS), CARBON DIOXIDE SEQUESTRATION + ARTIFICIAL CARBON SINK (GEOCHEMISTRY), REAKTIONSMECHANISMEN + REAKTIVITÄT (CHEMISCHE KINETIK), ADSORBIERENDE UND PORÖSE STOFFE (TECHNISCHE CHEMIE), Chemistry, ddc:540
وصف الملف: application/application/pdf
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17Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Dhakal, Dileep, Waechtler, Thomas, E. Schulz, Stefan, Mothes, Robert, Lang, Heinrich, Gessner, Thomas
Thesis Advisors: Fraunhofer ENAS
مصطلحات موضوعية: info:eu-repo/classification/ddc/620, ddc:620, info:eu-repo/classification/ddc/530, ddc:530, Kupferoxide, In-situ XPS, Atomic Layer Depositon (ALD), Copper Oxide (Cu2O)
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18Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Melzer, Marcel, Waechtler, Thomas, Müller, Steve, Fiedler, Holger, Hermann, Sascha, Rodriguez, Raul D., Villabona, Alexander, Sendzik, Andrea, Mothes, Robert, Schulz, Stefan E., Zahn, Dietrich R.T., Hietschold, Michael, Lang, Heinrich, Gessner, Thomas
Thesis Advisors: Fraunhofer Institute for Electronic Nano Systems (ENAS), Chemnitz University of Technology
المصدر: Microelectron. Eng. 107, 223-228 (2013). Digital Object Identifier: 10.1016/j.mee.2012.10.026
مصطلحات موضوعية: info:eu-repo/classification/ddc/620, ddc:620, info:eu-repo/classification/ddc/540, ddc:540, info:eu-repo/classification/ddc/530, ddc:530, Atomschichtepitaxie, Kohlenstoff-Nanoröhre, Diketonate
, Kupfer, Kupferoxide, Metallisierungsschicht, ULSI, Atomlagenabscheidung, Kupfer, Kupferoxid, Kohlenstoffnanoröhren, Carbon nanotubes ,CNT, Atomic layer deposition , ALD, Copper, Copper oxide, Interconnect, Thermal oxidation -
19
المؤلفون: Uebelacker, Stefan Andreas
المساهمون: Honerkamp, Carsten
المصدر: Aachen 155 S. : Ill., graph. Darst. (2013). = Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2013
مصطلحات موضوعية: topological insulator, Metall-Isolator-Übergang, many-particle theory, graphene, Quanten-Hall-Effekt, Vielelektronenproblem, Kupferoxide, Nicht-Fermi-Flüssigkeit, Graphen, Physik, Festkörpertheorie, correlated electrons, Vielteilchentheorie, Hochtemperatursupraleitung, ddc:530, Topologischer Isolator, Hubbard-Modell, high Tc superconductivity
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المؤلفون: Thomas Gessner, Holger Fiedler, Heinrich Lang, Sascha Hermann, Andrea Sendzik, Alexander Villabona, Marcel Melzer, Steve MüLler, Thomas Waechtler, Robert Mothes, Dietrich R. T. Zahn, Michael Hietschold, Stefan E. Schulz, Raul D. Rodriguez
المساهمون: Fraunhofer Institute for Electronic Nano Systems (ENAS), Chemnitz University of Technology, Publica
المصدر: Microelectron. Eng. 107, 223-228 (2013). Digital Object Identifier: 10.1016/j.mee.2012.10.026
مصطلحات موضوعية: Copper oxide, Materials science, Atomlagenabscheidung, Kupfer, Kupferoxid, Kohlenstoffnanoröhren, ddc:621.3, Atomschichtepitaxie, Kohlenstoff-Nanoröhre, Diketonate
, Kupfer, Kupferoxide, Metallisierungsschicht, ULSI, chemistry.chemical_element, Nanotechnology, Carbon nanotube, Carbide, law.invention, chemistry.chemical_compound, symbols.namesake, Atomic layer deposition, law, ddc:530, Electrical and Electronic Engineering, Thermal oxidation, Carbon nanotubes ,CNT, Atomic layer deposition , ALD, Copper, Copper oxide, Interconnect, Thermal oxidation, Condensed Matter Physics, Copper, Atomic and Molecular Physics, and Optics, Surfaces, Coatings and Films, Electronic, Optical and Magnetic Materials, chemistry, Chemical engineering, Transmission electron microscopy, ddc:540, symbols, ddc:620, Raman spectroscopy