-
1Academic Journal
المؤلفون: Konstantina Christina Topka, Babacar Diallo, Maxime Puyo, Erwan Chesneau, Farah Inoubli, Simon Ponton, Cecile Genevois, Diane Samelor, Raphael Laloo, Daniel Sadowski, Cédric Charvillat, Takashi Teramoto, François Senocq, Thierry Sauvage, Hugues Vergnes, Marie-Joelle Menu, Christian Dussarrat, Brigitte Caussat, Viviane Turq, Constantin Vahlas, Nadia Pellerin
مصطلحات موضوعية: Biophysics, Molecular Biology, Biotechnology, Ecology, Biological Sciences not elsewhere classified, Chemical Sciences not elsewhere classified, novel medicinal molecules, fine structural determination, achieved barrier properties, 580 ° c, providing chemical inertness, silicon oxynitride coatings, – n network, si –, applying chemical, silicate network, surface coatings, stored drug, possibility utilizing, nitrogen substitution, multiple applications, internal surface, glass network, films confirm, excellent performance, constituent elements, coatings pave, atomistic modeling
-
2
المؤلفون: Konstantina Christina Topka, Babacar Diallo, Maxime Puyo, Paris Papavasileiou, Charlotte Lebesgue, Cecile Genevois, Yann Tison, Cedric Charvillat, Diane Samelor, Raphael Laloo, Daniel Sadowski, François Senocq, Thierry Sauvage, Hugues Vergnes, Marie-Joelle Menu, Brigitte Caussat, Viviane Turq, Nadia Pellerin, Constantin Vahlas
المساهمون: Centre National de la Recherche Scientifique - CNRS (FRANCE), Institut National Polytechnique de Toulouse - Toulouse INP (FRANCE), Université Toulouse III - Paul Sabatier - UT3 (FRANCE)
المصدر: ACS Applied Electronic Materials.
مصطلحات موضوعية: buffer oxide etchant, thin film, Matériaux, tris(dimethylsilyl)amine, material network, Materials Chemistry, Electrochemistry, wet etching corrosion, hydrolysis resistance, Electronic, Optical and Magnetic Materials, silicon oxynitride, chemical vapor deposition
وصف الملف: application/pdf
-
3
المؤلفون: Konstantina Christina Topka, Paris Papavasileiou, Babacar Diallo, Tryfon Tsiros, Laura Decosterd, Brigitte Caussat, Marie-Joëlle Menu, Diane Samélor, Constantin Vahlas, Hugues Vergnes, François Senocq, Nadia Pellerin
المساهمون: Centre interuniversitaire de recherche et d'ingenierie des matériaux (CIRIMAT), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut de Chimie du CNRS (INC), Laboratoire de Génie Chimique (LGC), Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Conditions Extrêmes et Matériaux : Haute Température et Irradiation (CEMHTI), Université d'Orléans (UO)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), ANR-17-CE08-0056,HEALTHYGLASS,Surfaces de verre performantes et durables pour la pharmacie(2017), Centre National de la Recherche Scientifique - CNRS (FRANCE), Institut National Polytechnique de Toulouse - Toulouse INP (FRANCE), Université Toulouse III - Paul Sabatier - UT3 (FRANCE), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées, Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université d'Orléans (UO), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Laboratoire de Génie Civil (LGC), Université Blaise Pascal - Clermont-Ferrand 2 (UBP)
المصدر: Chemical Engineering Journal
Chemical Engineering Journal, Elsevier, 2022, 431, pp.133350. ⟨10.1016/j.cej.2021.133350⟩
Chemical Engineering Journal, Elsevier, In press, pp.133350. ⟨10.1016/j.cej.2021.133350⟩
Chemical Engineering Journal, 2021, 431, pp.133350. ⟨10.1016/j.cej.2021.133350⟩مصطلحات موضوعية: Experimental validation, Silicon oxynitride, Materials science, Silicon, General Chemical Engineering, Matériaux, chemistry.chemical_element, 02 engineering and technology, Chemical vapor deposition, Computational fluid dynamics, 01 natural sciences, Chemical reaction, Industrial and Manufacturing Engineering, [SPI.MAT]Engineering Sciences [physics]/Materials, chemistry.chemical_compound, Phase (matter), 0103 physical sciences, Environmental Chemistry, Molecule, Deposition (phase transition), Génie chimique, Thin film, Génie des procédés, ComputingMilieux_MISCELLANEOUS, 010302 applied physics, General Chemistry, [CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry, Kinetic model, 021001 nanoscience & nanotechnology, Silanamine precursor, chemistry, Chemical engineering, 0210 nano-technology
وصف الملف: application/pdf
-
4
المؤلفون: Maxime Puyo, Vincent Sarou-Kanian, Pierre Florian, Diane Samélor, Mathieu Allix, Constantin Vahlas, Hélène Lecoq, Brigitte Caussat, Marie-Joëlle Menu, Raphaël Laloo, Viviane Turq, François Senocq, Charlotte Lebesgue, T. Sauvage, Nadia Pellerin, Cécile Genevois, Babacar Diallo, Hugues Vergnes, Konstantina Christina Topka
المساهمون: Conditions Extrêmes et Matériaux : Haute Température et Irradiation (CEMHTI), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université d'Orléans (UO), Université d'Orléans (UO), Laboratoire de Génie Chimique (LGC), Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées, Centre interuniversitaire de recherche et d'ingenierie des matériaux (CIRIMAT), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut de Chimie du CNRS (INC), Centre National de la Recherche Scientifique - CNRS (FRANCE), Institut National Polytechnique de Toulouse - Toulouse INP (FRANCE), Université Toulouse III - Paul Sabatier - UT3 (FRANCE), Université d'Orléans (FRANCE)
المصدر: Journal of Materials Research and Technology
Journal of Materials Research and Technology, Elsevier, 2021, ⟨10.1016/j.jmrt.2021.04.067⟩
Journal of Materials Research and Technology, Vol 13, Iss, Pp 534-547 (2021)مصطلحات موضوعية: Materials science, Silicon, Matériaux, chemistry.chemical_element, Mechanical properties, 02 engineering and technology, Chemical vapor deposition, Substrate (electronics), 01 natural sciences, Biomaterials, chemistry.chemical_compound, 0103 physical sciences, Etching rate, Hydrated species, Génie chimique, Génie des procédés, ComputingMilieux_MISCELLANEOUS, Network ordering, 010302 applied physics, Mining engineering. Metallurgy, Atmospheric pressure, Metals and Alloys, TN1-997, [CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry, 021001 nanoscience & nanotechnology, CVD, Surfaces, Coatings and Films, Amorphous solid, Tetraethyl orthosilicate, Silanol, chemistry, Chemical engineering, Ceramics and Composites, SiO2, 0210 nano-technology, Stoichiometry
وصف الملف: application/pdf
-
5
المؤلفون: Laura Decosterd, Constantin Vahlas, Konstantina Christina Topka, Babacar Diallo, Hugues Vergnes, François Senocq, Brigitte Caussat, Marie-Joëlle Menu, Diane Samélor
المساهمون: Centre National de la Recherche Scientifique - CNRS (FRANCE), Institut National Polytechnique de Toulouse - Toulouse INP (FRANCE), Université Toulouse III - Paul Sabatier - UT3 (FRANCE), Centre interuniversitaire de recherche et d'ingenierie des matériaux (CIRIMAT), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut de Chimie du CNRS (INC), Laboratoire de Génie Chimique (LGC), Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées, Conditions Extrêmes et Matériaux : Haute Température et Irradiation (CEMHTI), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université d'Orléans (UO)
المصدر: Physical Chemistry Chemical Physics
Physical Chemistry Chemical Physics, Royal Society of Chemistry, 2021, 23 (17), pp.10560-10572. ⟨10.1039/d1cp01129d⟩مصطلحات موضوعية: Silicon oxynitride, Materials science, Silicon, Matériaux, Inorganic chemistry, General Physics and Astronomy, chemistry.chemical_element, Silazane, 02 engineering and technology, Chemical vapor deposition, 010402 general chemistry, 01 natural sciences, chemistry.chemical_compound, gas phase analysis, Molecule, Deposition (phase transition), Physical and Theoretical Chemistry, Silicon oxynitride (SiOxNy) films, ESR, Decomposition, Dimethylsilane, [CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry, 021001 nanoscience & nanotechnology, NMR, TDMSA, 0104 chemical sciences, chemistry, Amine gas treating, GC-MS, 0210 nano-technology, Tris(dimethylsilyl)amine (TDMSA), thermal CVD
وصف الملف: application/pdf
-
6
المؤلفون: Cécile Genevois, Babacar Diallo, Diane Samélor, Konstantina Christina Topka, Daniel Sadowski, Raphaël Laloo, Viviane Turq, Hugues Vergnes, Constantin Vahlas, T. Sauvage, Nadia Pellerin, Brigitte Caussat, François Senocq
المساهمون: Centre National de la Recherche Scientifique - CNRS (FRANCE), Institut National Polytechnique de Toulouse - Toulouse INP (FRANCE), Université Toulouse III - Paul Sabatier - UT3 (FRANCE), Laboratoire de Génie Chimique (LGC), Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées, Centre interuniversitaire de recherche et d'ingenierie des matériaux (CIRIMAT), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut de Chimie du CNRS (INC), Conditions Extrêmes et Matériaux : Haute Température et Irradiation (CEMHTI), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université d'Orléans (UO)
المصدر: Surface and Coatings Technology
Surface and Coatings Technology, Elsevier, 2020, 407, ⟨10.1016/j.surfcoat.2020.126762⟩مصطلحات موضوعية: Ozone, Materials science, Matériaux, chemistry.chemical_element, Mechanical properties, 02 engineering and technology, Chemical vapor deposition, 010402 general chemistry, 01 natural sciences, Corrosion, Contact angle, chemistry.chemical_compound, Pliskin etching rate, Materials Chemistry, Deposition (phase transition), Hydrophilicity, Ion beam analysis, Silica, Surfaces and Interfaces, General Chemistry, [CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry, 021001 nanoscience & nanotechnology, Condensed Matter Physics, CVD, 0104 chemical sciences, Surfaces, Coatings and Films, Tetraethyl orthosilicate, chemistry, Chemical engineering, Silicon oxycarbides, 0210 nano-technology, Carbon
وصف الملف: application/pdf
-
7
المؤلفون: Cécile Genevois, Maxime Puyo, Babacar Diallo, Thierry Sauvage, Pierre Florian, Raphaël Laloo, Viviane Turq, Konstantina Christina Topka, Diane Samélor, Nadia Pellerin, François Senocq, Hugues Vergnes, Constantin Vahlas, Brigitte Caussat, Marie-Joëlle Menu
المساهمون: Centre interuniversitaire de recherche et d'ingenierie des matériaux (CIRIMAT), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut de Chimie du CNRS (INC), Laboratoire de Génie Chimique (LGC), Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées, Conditions Extrêmes et Matériaux : Haute Température et Irradiation (CEMHTI), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université d'Orléans (UO), Centre National de la Recherche Scientifique - CNRS (FRANCE), Institut National Polytechnique de Toulouse - Toulouse INP (FRANCE), Université Toulouse III - Paul Sabatier - UT3 (FRANCE), Université d'Orléans (FRANCE)
المصدر: Thin Solid Films
Thin Solid Films, Elsevier, 2021, 735, pp.138844. ⟨10.1016/j.tsf.2021.138844⟩مصطلحات موضوعية: Amorphous silicon, Materials science, chemical vapor deposition coatings, nanoindentation, intrinsic film properties, Matériaux, Thin films, Young's modulus, 02 engineering and technology, Substrate (electronics), Chemical vapor deposition, 01 natural sciences, Nanoindentation, [PHYS.MECA.MEMA]Physics [physics]/Mechanics [physics]/Mechanics of materials [physics.class-ph], chemistry.chemical_compound, symbols.namesake, models, Models, Intrinsic film properties, Indentation, 0103 physical sciences, Materials Chemistry, Génie chimique, Thin film, Composite material, Silicon oxide, Génie des procédés, Silicon oxycarbide, 010302 applied physics, Metals and Alloys, Surfaces and Interfaces, 021001 nanoscience & nanotechnology, Surfaces, Coatings and Films, Electronic, Optical and Magnetic Materials, silicon oxide, chemistry, silicon oxycarbide, thin films, symbols, Chemical vapor deposition coatings, 0210 nano-technology
وصف الملف: application/pdf
-
8
المؤلفون: Konstantina Christina Topka, George Alexander Chliavoras, Diane Samélor, Daniel Sadowski, François Senocq, Constantin Vahlas, Hugues Vergnes, Brigitte Caussat
المساهمون: Centre National de la Recherche Scientifique - CNRS (FRANCE), Institut National Polytechnique de Toulouse - Toulouse INP (FRANCE), Université Toulouse III - Paul Sabatier - UT3 (FRANCE), Centre interuniversitaire de recherche et d'ingenierie des matériaux (CIRIMAT), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Institut de Chimie du CNRS (INC), Laboratoire de Génie Chimique (LGC), Université Toulouse III - Paul Sabatier (UT3), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut National Polytechnique (Toulouse) (Toulouse INP), Université Fédérale Toulouse Midi-Pyrénées
المصدر: Chemical Engineering Research and Design
Chemical Engineering Research and Design, Elsevier, 2020, 161, pp.146-158. ⟨10.1016/j.cherd.2020.07.007⟩مصطلحات موضوعية: Ozone, Materials science, Silicon dioxide, Matériaux, General Chemical Engineering, 02 engineering and technology, Chemical vapor deposition, engineering.material, 010402 general chemistry, 01 natural sciences, 7. Clean energy, Reaction rate, chemistry.chemical_compound, [CHIM.GENI]Chemical Sciences/Chemical engineering, Coating, Thermal, Génie chimique, Génie des procédés, Range (particle radiation), TEOS, General Chemistry, [CHIM.MATE]Chemical Sciences/Material chemistry, Computational Fluid Dynamics, Atmospheric temperature range, Kinetic model, 021001 nanoscience & nanotechnology, 0104 chemical sciences, chemistry, Chemical engineering, engineering, 0210 nano-technology
وصف الملف: application/pdf