المؤلفون: J. S. Steckel, E. Josse, A. G. Pattantyus-Abraham, M. Bidaud, B. Mortini, H. Bilgen, O. Arnaud, S. Allegret-Maret, F. Saguin, L. Mazet, S. Lhostis, T. Berger, K. Haxaire, L. L. Chapelon, L. Parmigiani, P. Gouraud, M. Brihoum, P. Bar, M. Guillermet, S. Favreau, R. Duru, J. Fantuz, S. Ricq, D. Ney, I. Hammad, D. Roy, A. Arnaud, B. Vianne, G. Nayak, N. Virollet, V. Farys, P. Malinge, A. Tournier, F. Lalanne, A. Crocherie, J. Galvier, S. Rabary, O. Noblanc, H. Wehbe-Alause, S. Acharya, A. Singh, J. Meitzner, D. Aher, H. Yang, J. Romero, B. Chen, C. Hsu, K. C. Cheng, Y. Chang, M. Sarmiento, C. Grange, E. Mazaleyrat, K. Rochereau

المصدر: 2021 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM).

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f9ba7ab2beceb487279311b475596647
https://doi.org/10.1109/iedm19574.2021.9720560

المؤلفون: Bénédicte Mortini, E. Mortini, Vincent Farys, Stéphanie Audran, C. Cowache, L. Berthier, J.-P. Reynard, O. Arnaud, C. Baron, J. Fantuz, Frank Sundermann, L. Depoyan, Jérôme Vaillant, Flavien Hirigoyen, Emilie Huss

المصدر: SPIE Proceedings.

مصطلحات موضوعية: Microlens, Light intensity, Materials science, Optics, Resist, business.industry, Reticle, Optoelectronics, Image sensor, Photoresist, business, Grayscale, Lithography

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e98571962229f2e0a10bd40d54a02623
https://doi.org/10.1117/12.846507