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1Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Vandenabeele, Cédric
Thesis Advisors: Université de Lorraine, Belmonte, Thierry, Choquet, Patrick
مصطلحات موضوعية: Décharge à barrière diélectrique (DBD), Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à la pression atmosphérique (AP-PECVD), Couche mince organochlorée, Substrat cylindrique, Dépôt en continu, Préparation de surface, Adhésion caoutchouc / métal, Caractérisation de l'interface, Dielectric Barrier Discharge (DBD), Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (AP-PECVD), Organo-chlorinated thin film, Cylindrical substrate, Continuous deposition, Surface preparation, Rubber / metal adhesion, Interface characterization, 621.044, 530.44
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2Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Vandenabeele, Cédric
المساهمون: Institut Jean Lamour (IJL), Institut de Chimie - CNRS Chimie (INC-CNRS)-Université de Lorraine (UL)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université de Lorraine, Thierry Belmonte, Patrick Choquet
المصدر: https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750 ; Autre [cond-mat.other]. Université de Lorraine, 2014. Français. ⟨NNT : 2014LORR0047⟩.
مصطلحات موضوعية: Dielectric Barrier Discharge (DBD), Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (AP-PECVD), Organo-chlorinated thin film, Cylindrical substrate, Continuous deposition, Surface preparation, Rubber / metal adhesion, Interface characterization, Décharge à barrière diélectrique (DBD), Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à la pression atmosphérique (AP-PECVD), Couche mince organochlorée, Substrat cylindrique, Dépôt en continu, Préparation de surface, Adhésion caoutchouc / métal, Caractérisation de l'interface, Couches minces métalliques, Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma, Adhésion (physique), Surfaces (technologie) -- Analyse, [PHYS.COND.CM-GEN]Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]/Other [cond-mat.other], [SPI.OTHER]Engineering Sciences [physics]/Other
Relation: NNT: 2014LORR0047; tel-01750750; https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750; https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750/document; https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01750750/file/DDOC_T_2014_0047_VANDENABEELE.pdf
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3Dissertation/ Thesis
المؤلفون: Vandenabeele, Cédric
المساهمون: Université de Lorraine, Belmonte, Thierry, Choquet, Patrick
مصطلحات موضوعية: Décharge à barrière diélectrique (DBD), Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à la pression atmosphérique (AP-PECVD), Couche mince organochlorée, Substrat cylindrique, Dépôt en continu, Préparation de surface, Adhésion caoutchouc / métal, Caractérisation de l'interface, Dielectric Barrier Discharge (DBD), Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (AP-PECVD), Organo-chlorinated thin film, Cylindrical substrate, Continuous deposition, Surface preparation, Rubber / metal adhesion, Interface characterization, 621.044, 530.44