المؤلفون: J. Aarik, A. R. Akbashev, M. Bechelany, J. S. Becker, M. Berdova, D. Cameron, V. E. Drozd, C. Dubourdieu, J. Elam, S. Elliott, K. Grigoras, J. M. Kanervo, Y.u. Koshtyal, M. L. Kääriäinen, T. Kääriäinen, L. Lamagna, A. Malkov, A. Malygin, J. Molarius, J. Nikkola, C. Ozgit Akgun, H. Pedersen, R. L. Puurunen, A. Pyymäki Perros, R. H. A. Ras, F. Roozeboom, T. Sajavaara, H. Savin, T. E. Seidel, P. Sundberg, J. Sundqvist, M. Tallarida, J. R. van Ommen, C. Wiemer, O. M. E. Ylivaara, Gottardi, Gloria

المساهمون: J., Aarik, A. R., Akbashev, M., Bechelany, J. S., Becker, M., Berdova, D., Cameron, V. E., Drozd, C., Dubourdieu, J., Elam, S., Elliott, Gottardi, Gloria, K., Grigora, J. M., Kanervo, Koshtyal, Y. u., M. L., Kääriäinen, T., Kääriäinen, L., Lamagna, A., Malkov, A., Malygin, J., Molariu, J., Nikkola, C., Ozgit Akgun, H., Pedersen, R. L., Puurunen, A., Pyymäki Perro, R. H. A., Ra, F., Roozeboom, T., Sajavaara, H., Savin, T. E., Seidel, P., Sundberg, J., Sundqvist, M., Tallarida, J. R., van Ommen, C., Wiemer, O. M. E., Ylivaara

وصف الملف: ELETTRONICO

Relation: ispartofbook:ALD 2014; 14th AVS International Topical Conference on Atomic Layer Deposition; http://hdl.handle.net/11582/233021

الاتاحة: http://hdl.handle.net/11582/233021

المؤلفون: J. Aarik, A. R. Akbashev, M. Bechelany, J. S. Becker, M. Berdova, D. Cameron, V. E. Drozd, C. Dubourdieu, J. Elam, S. Elliott, K. Grigoras, J. M. Kanervo, Y.u. Koshtyal, M. L. Kääriäinen, T. Kääriäinen, L. Lamagna, A. Malkov, A. Malygin, J. Molarius, J. Nikkola, C. Ozgit Akgun, H. Pedersen, R. L. Puurunen, A. Pyymäki Perros, R. H. A. Ras, F. Roozeboom, T. Sajavaara, H. Savin, T. E. Seidel, P. Sundberg, J. Sundqvist, M. Tallarida, J. R. van Ommen, C. Wiemer, O. M. E. Ylivaara, Gottardi, Gloria

المساهمون: J., Aarik, A. R., Akbashev, M., Bechelany, J. S., Becker, M., Berdova, D., Cameron, V. E., Drozd, C., Dubourdieu, J., Elam, S., Elliott, Gottardi, Gloria, K., Grigora, J. M., Kanervo, Koshtyal, Y. u., M. L., Kääriäinen, T., Kääriäinen, L., Lamagna, A., Malkov, A., Malygin, J., Molariu, J., Nikkola, C., Ozgit Akgun, H., Pedersen, R. L., Puurunen, A., Pyymäki Perro, R. H. A., Ra, F., Roozeboom, T., Sajavaara, H., Savin, T. E., Seidel, P., Sundberg, J., Sundqvist, M., Tallarida, J. R., van Ommen, C., Wiemer, O. M. E., Ylivaara

Relation: ispartofbook:ALD 2014; 14th International Conference on Atomic Layer Deposition; issue:16P003; http://hdl.handle.net/11582/233022

الاتاحة: http://hdl.handle.net/11582/233022

المؤلفون: J. Aarik, A. R. Akbashev, M. Bechelany, J. S. Becker, M. Berdova, D. Cameron, V. E. Drozd, C. Dubourdieu, J. Elam, S. Elliott, K. Grigoras, J. M. Kanervo, Y.u. Koshtyal, M. L. Kääriäinen, T. Kääriäinen, L. Lamagna, A. Malkov, A. Malygin, J. Molarius, J. Nikkola, C. Ozgit Akgun, H. Pedersen, R. L. Puurunen, A. Pyymäki Perros, R. H. A. Ras, F. Roozeboom, T. Sajavaara, H. Savin, T. E. Seidel, P. Sundberg, J. Sundqvist, M. Tallarida, J. R. van Ommen, C. Wiemer, O. M. E. Ylivaara, Gottardi, Gloria

المساهمون: J., Aarik, A. R., Akbashev, M., Bechelany, J. S., Becker, M., Berdova, D., Cameron, V. E., Drozd, C., Dubourdieu, J., Elam, S., Elliott, Gottardi, Gloria, K., Grigora, J. M., Kanervo, Koshtyal, Y. u., M. L., Kääriäinen, T., Kääriäinen, L., Lamagna, A., Malkov, A., Malygin, J., Molariu, J., Nikkola, C., Ozgit Akgun, H., Pedersen, R. L., Puurunen, A., Pyymäki Perro, R. H. A., Ra, F., Roozeboom, T., Sajavaara, H., Savin, T. E., Seidel, P., Sundberg, J., Sundqvist, M., Tallarida, J. R., van Ommen, C., Wiemer, O. M. E., Ylivaara

Relation: ispartofbook:ALD 2014; 14th International Conference on Atomic Layer Deposition; issue:16P004; http://hdl.handle.net/11582/233024

الاتاحة: http://hdl.handle.net/11582/233024

المؤلفون: J. Aarik, A. R. Akbashev, M. Bechelany, J. S. Becker, M. Berdova, D. Cameron, V. E. Drozd, C. Dubourdieu, J. Elam, S. Elliott, K. Grigoras, J. M. Kanervo, Y.u. Koshtyal, M. L. Kääriäinen, T. Kääriäinen, L. Lamagna, A. Malkov, A. Malygin, J. Molarius, J. Nikkola, C. Ozgit Akgun, H. Pedersen, R. L. Puurunen, A. Pyymäki Perros, R. H. A. Ras, F. Roozeboom, T. Sajavaara, H. Savin, T. E. Seidel, P. Sundberg, J. Sundqvist, M. Tallarida, J. R. van Ommen, C. Wiemer, O. M. E. Ylivaara, Gottardi, Gloria

المساهمون: J., Aarik, A. R., Akbashev, M., Bechelany, J. S., Becker, M., Berdova, D., Cameron, V. E., Drozd, C., Dubourdieu, J., Elam, S., Elliott, Gottardi, Gloria, K., Grigora, J. M., Kanervo, Koshtyal, Y. u., M. L., Kääriäinen, T., Kääriäinen, L., Lamagna, A., Malkov, A., Malygin, J., Molariu, J., Nikkola, C., Ozgit Akgun, H., Pedersen, R. L., Puurunen, A., Pyymäki Perro, R. H. A., Ra, F., Roozeboom, T., Sajavaara, H., Savin, T. E., Seidel, P., Sundberg, J., Sundqvist, M., Tallarida, J. R., van Ommen, C., Wiemer, O. M. E., Ylivaara

وصف الملف: ELETTRONICO

Relation: ispartofbook:ALD 2014; 14th International Topical Conference on Atomic Layer Deposition; http://hdl.handle.net/11582/233023

الاتاحة: http://hdl.handle.net/11582/233023