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    Report
    Schlussbericht zum Projekt: TAPES3 - Entwicklung neuartiger Messverfahren und zugehöriger Technologien für den Aufbau einer effizienten Maskeninfrastruktur der zukünftigen 3-nm-Halbleiterherstellung zu dem übergeordneten EU-Verbundprojekt: TAPES3 - Technology advances for pilot line of enhanced semidonductors for 3nm : Laufzeit des Vorhabens: 01.10.2018-3.09.2021 (Planzeitraum), 01.10.2022-31.01.2022 (Verlängerung) ...

    المؤلفون: Brose, Sascha Manuel

    مصطلحات موضوعية: Maske Halbleitertechnologie, Chip, Extremes Ultraviolett, Mikroelektronik, EUV-Lithografie, Halbleitertechnologie, Electrical engineering

    وصف الملف: application/pdf

    الاتاحة: https://dx.doi.org/10.2314/kxp:1861087837
    https://www.tib.eu/suchen/id/TIBKAT:1861087837

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    Auslegung und Charakterisierung einer Nanostrukturierungsanlage für den extrem-ultravioletten Strahlungsbereich

    المؤلفون: Brose, Sascha Manuel

    المساهمون: Taubner, Thomas Günter, Loosen, Peter, Juschkin, L.

    المصدر: Aachen 1 Online-Ressource (III, 239 Seiten) : Illustrationen, Diagramme (2018). doi:10.18154/RWTH-2019-02641 = Dissertation, RWTH Aachen University, 2018

    مصطلحات موضوعية: high-resolution photoresists, extrem ultraviolette Strahlung, interference lithography, Interferenzlithografie, hochauflösende Photoresists, transmission masks, ddc:530, periodische Strukturanordnungen, extreme ultraviolet radiation, periodic structures, Nanostrukturierung, Transmissionsmasken, nanopatterning

    URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::0de3c08e89f278d1570e700f4483531e

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