المؤلفون: Chevolleau, T., Posseme, N., David, T., Bouyssou, R., Ducote, J., Bailly, F., Darnon, Maxime, El Kodadi, M., Besacier, M., Licitra, C., Guillermet, M., Ostrovsky, A., Verove, C., Joubert, O.

المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES)

المصدر: International Interconnect Technology Conference, IITC ; https://hal.science/hal-00625314 ; International Interconnect Technology Conference, IITC, Jun 2010, Dresde, Germany. ⟨10.1109/IITC.2010.5510735⟩

مصطلحات موضوعية: Dielectrics, Radar measurements, Etching, Scalability, Plasma applications, Integrated circuit technology, Integrated circuit interconnections, Plasma devices, Plasma materials processing, Plasma x-ray sources, [SPI]Engineering Sciences [physics]

جغرافية الموضوع: Dresde, Germany

الاتاحة: https://hal.science/hal-00625314
https://hal.science/hal-00625314v1/document
https://hal.science/hal-00625314v1/file/chevolleau2010.pdf
https://doi.org/10.1109/IITC.2010.5510735

المؤلفون: Licitra, C., Bouyssou, R., Chevolleau, T., Rochat, N., Bertin, F., Secula, Erik M., Seiler, David G., Khosla, Rajinder P., Herr, Dan, Michael Garner, C., McDonald, Robert, Diebold, Alain C.

المصدر: AIP Conference Proceedings ; page 149-153

الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1063/1.3251211

المؤلفون: Bailly, F., David, T., Chevolleau, T., Darnon, Maxime, Posseme, N., Bouyssou, R., Ducote, J., Joubert, O., Cardinaud, Christophe

المساهمون: Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN), Université de Nantes - UFR des Sciences et des Techniques (UN UFR ST), Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN)-Ecole Polytechnique de l'Université de Nantes (EPUN), Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN)-Institut de Chimie - CNRS Chimie (INC-CNRS)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique Sherbrooke (3IT), Université de Sherbrooke (UdeS), Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes Sherbrooke (LN2), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Université de Sherbrooke (UdeS)-École Centrale de Lyon (ECL), Université de Lyon-Université de Lyon-École Supérieure de Chimie Physique Électronique de Lyon (CPE)-Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon), Université de Lyon-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES)

المصدر: ISSN: 0021-8979.

مصطلحات موضوعية: [PHYS.COND.CM-MS]Physics [physics]/Condensed Matter [cond-mat]/Materials Science [cond-mat.mtrl-sci]

الاتاحة: https://hal.science/hal-00848955
https://hal.science/hal-00848955v1/document
https://hal.science/hal-00848955v1/file/Bailly2010.pdf
https://doi.org/10.1063/1.3446820

المؤلفون: Darnon, Maxime, Chevolleau, T., Eon, D., Bouyssou, R., Pelissier, B., Vallier, L., Joubert, O., R., Posseme, N., David, T., Bailly, F., Torres, J.

المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

المصدر: ISSN: 0167-9317.

مصطلحات موضوعية: Interconnects, Patterning, Low-k, TiN, Hard mask, [SPI]Engineering Sciences [physics]

الاتاحة: https://hal.science/hal-00387506
https://hal.science/hal-00387506v1/document
https://hal.science/hal-00387506v1/file/darnon2008.pdf
https://doi.org/10.1016/j.mee.2008.06.025

المؤلفون: Dettoni, F., Shapoval, T., Bouyssou, R., Itzkovich, T., Haupt, R., Dezauzier, C.

المساهمون: Sanchez, Martha I., Ukraintsev, Vladimir A.

المصدر: SPIE Proceedings ; Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXI ; ISSN 0277-786X

الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1117/12.2257883

المؤلفون: Carau, D., Bouyssou, R., Dezauzier, C., Besacier, M., Gourgon, C.

المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)

المصدر: Photonics Europe, SPIE ; https://hal.science/hal-01798505 ; Photonics Europe, SPIE , 2014, Brussels Switzerland

مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics]

جغرافية الموضوع: Brussels, Switzerland

الاتاحة: https://hal.science/hal-01798505

المؤلفون: Desvoivres, L., Gouraud, P., Le Gratiet, B., Bouyssou, R., Ranica, R., Gallon, C., Thomas, I.

المساهمون: Oehrlein, Gottlieb S., Lin, Qinghuang, Zhang, Ying

المصدر: SPIE Proceedings ; Advanced Etch Technology for Nanopatterning III ; ISSN 0277-786X

الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1117/12.2045904

المؤلفون: Hazart, J., Chesneau, N., Evin, G., Largent, A., Derville, A., Thérèse, R., Bos, S., Bouyssou, R., Dezauzier, C., Foucher, J.

المساهمون: Cain, Jason P., Sanchez, Martha I.

المصدر: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXVIII ; SPIE Proceedings ; ISSN 0277-786X

الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1117/12.2046484

المؤلفون: Orlando, B., Spaziani, N., Socquet, N., Bouyssou, R., Gatefait, M., Goirand, P.J.

المساهمون: Starikov, Alexander, Cain, Jason P.

المصدر: SPIE Proceedings ; Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXVII ; ISSN 0277-786X

الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1117/12.2011122

المؤلفون: Bouyssou, R., Le Gratiet, B., Gouraud, P., Desvoivres, L., Briend, G., Dumont, B.

المساهمون: Starikov, Alexander, Cain, Jason P.

المصدر: SPIE Proceedings ; Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXVII ; ISSN 0277-786X

الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1117/12.2010746

المؤلفون: Ducoté, J., Bernard-Granger, F., Le-Gratiet, B., Bouyssou, R., Bianchini, R., Marin, J. C., Baron, M. P., Gardet, F., Devoivre, T., Batail, E., Pouly, C., Gueze, D., Thevenon, L.

المساهمون: Starikov, Alexander, Cain, Jason P.

المصدر: SPIE Proceedings ; Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXVII ; ISSN 0277-786X

الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1117/12.2010909

المؤلفون: Darnon, Maxime, Chevolleau, T., David, T., Posseme, N., Bouyssou, R., Licitra, C., Rochat, N., Hurand, R., Bailly, F., Verove, C., Joubert, O.

المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES)

المصدر: China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC) ; https://hal.science/hal-00808862 ; China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), Mar 2012, Shanghaï, China

جغرافية الموضوع: Shanghaï, China

الاتاحة: https://hal.science/hal-00808862

المؤلفون: Chevolleau, T., Darnon, Maxime, Posseme, N., David, T., Bouyssou, R., Bailly, F., Ducote, J., Licitra, C., Verove, C., Joubert, O.

المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES)

المصدر: Materials Research Society spring meeting ; https://hal.science/hal-00808861 ; Materials Research Society spring meeting, Apr 2012, San francisco, United States

جغرافية الموضوع: San francisco, United States

الاتاحة: https://hal.science/hal-00808861

المؤلفون: Hurand, R., Bouyssou, R., Darnon, M., Tiphine, C., Licitra, C., El-kodadi, M., Chevolleau, T., David, T., Posseme, N., Besacier, M., Schiavone, P., Bailly, F., Joubert, O., Verove, C.

المصدر: 2011 IEEE International Interconnect Technology Conference ; page 1-3

الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1109/iitc.2011.5940350
http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/5930384/5940254/05940350.pdf?arnumber=5940350

المؤلفون: Darnon, M., Chevolleau, T., David, T., Posseme, N., Bouyssou, R., Hurand, R., Joubert, O., Licitra, C., Rochat, N., Bailly, F., Verove, C.

المصدر: 2011 IEEE International Interconnect Technology Conference ; page 1-3

الاتاحة: http://dx.doi.org/10.1109/iitc.2011.5940348
http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/5930384/5940254/05940348.pdf?arnumber=5940348

المؤلفون: Darnon, Maxime, Chevolleau, T., David, T., Posseme, N., Bouyssou, R., Licitra, C., Rochat, N., El Kodadi, M., Hurand, R., Bailly, F., Verove, C., Joubert, O.

المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES)

المصدر: China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC) ; https://hal.science/hal-00625356 ; China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), Mar 2011, Shanghaï, China

جغرافية الموضوع: Shanghaï, China

الاتاحة: https://hal.science/hal-00625356

المؤلفون: Posseme, N., David, T., Chevolleau, T., Darnon, Maxime, Bailly, F., Bouyssou, R., Ducote, J., Verove, C., Joubert, O.

المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES)

المصدر: Electrochem. 219th Soc. Meeting ; https://hal.science/hal-00625357 ; Electrochem. 219th Soc. Meeting, 2011, Montreal, Canada

جغرافية الموضوع: Montreal

Time: Montreal, Canada

الاتاحة: https://hal.science/hal-00625357

المؤلفون: Darnon, Maxime, Chevolleau, T., David, T., Posseme, N., Bouyssou, R., Hurand, R., Joubert, O., Licitra, C., Rochat, N., Bailly, F., Verove, C.

المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES)

المصدر: IEEE International Interconnect Technology Conference / Materials for Advanced Metallization ; https://hal.science/hal-00647635 ; IEEE International Interconnect Technology Conference / Materials for Advanced Metallization, May 2011, Dresde, Germany

جغرافية الموضوع: Dresde, Germany

الاتاحة: https://hal.science/hal-00647635

المؤلفون: Darnon, Maxime, Chevolleau, T., David, T., Posseme, N., Bouyssou, R., Hurand, R., Tiphine, C., El Kodadi, M., Besacier, M., Schiavone, P., Joubert, O., Licitra, C., Rochat, N., Bailly, F., Verove, C.

المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES)

المصدر: 4th Plasma Etch and Strip in Microelectronics Workshop
https://hal.science/hal-00647611
4th Plasma Etch and Strip in Microelectronics Workshop, May 2011, Mechelen, Belgium

جغرافية الموضوع: Mechelen, Belgium

الاتاحة: https://hal.science/hal-00647611

المؤلفون: Hurand, R., Darnon, Maxime, Chevolleau, T., Fuard, D., Bailly, F., Bouyssou, R., David, T., Joubert, O., Leverd, F.

المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)

المصدر: AVS 58h international symposium ; https://hal.science/hal-00647640 ; AVS 58h international symposium, Oct 2011, Nashville, United States

جغرافية الموضوع: Nashville, United States

الاتاحة: https://hal.science/hal-00647640