يعرض 1 - 20 نتائج من 282 نتيجة بحث عن '"Barnola, S."', وقت الاستعلام: 0.74s تنقيح النتائج
  1. 1
    Conference

    المساهمون: Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)

    المصدر: 2018 IEEE International Memory Workshop (IMW)
    https://cea.hal.science/cea-02185419
    2018 IEEE International Memory Workshop (IMW), May 2018, Kyoto, Japan

    جغرافية الموضوع: Kyoto, Japan

    Time: Kyoto, Japan

  2. 2
    Academic Journal

    المساهمون: Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES), Département Plate-Forme Technologique (DPFT), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), SERMA Technologies

    المصدر: ISSN: 0734-211X.

    مصطلحات موضوعية: [SPI]Engineering Sciences [physics]

  3. 3
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), SPIE, Qinghuang Lin, Sebastian U. Engelmann, Ying Zhang

    المصدر: SPIE Proceedings ; SPIE Advanced Lithography ; https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01869175 ; SPIE Advanced Lithography, SPIE, 2015, San Jose, CA, United States. pp.94280B, ⟨10.1117/12.2085812⟩

    جغرافية الموضوع: San Jose, CA, United States

  4. 4
    Conference

    المساهمون: STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation (IMEP-LAHC ), Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP )-Université Savoie Mont Blanc (USMB Université de Savoie Université de Chambéry )-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes 2016-2019 (UGA 2016-2019 ), Vistec Electron Beam GmbH

    المصدر: 2017 EUROSOI-ULIS Proceedings
    2017 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon (EUROSOI-ULIS)
    https://hal.science/hal-02014232
    2017 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon (EUROSOI-ULIS), Apr 2017, Athens, Greece. pp.120-123, ⟨10.1109/ULIS.2017.7962617⟩

    جغرافية الموضوع: Athens, Greece

    Relation: hal-02014232; https://hal.science/hal-02014232

  5. 5
  6. 6
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes 2016-2019 (UGA 2016-2019 )

    المصدر: SPIE advanced lithography, Advanced Etch Technology for Nanopatterning V, Conference 9782 ; https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882458 ; SPIE advanced lithography, Advanced Etch Technology for Nanopatterning V, Conference 9782, Feb 2016, San Jose, United States

    مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics]

    جغرافية الموضوع: San Jose, United States

  7. 7
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes 2016-2019 (UGA 2016-2019 ), ANR-10-LABX-0055,MINOS Lab,Minatec Novel Devices Scaling Laboratory(2010)

    المصدر: SPIE Advanced Lithography ; https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882440 ; SPIE Advanced Lithography, 2016, San Jose, United States. ⟨10.1117/12.2221903⟩

    مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics]

    جغرافية الموضوع: San Jose, United States

  8. 8
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes 2016-2019 (UGA 2016-2019 )

    المصدر: Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 9th International Workshop ; https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882455 ; Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 9th International Workshop, May 2016, Grenoble, France

    مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics]

    جغرافية الموضوع: Grenoble, France

  9. 9
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes 2016-2019 (UGA 2016-2019 )

    المصدر: 65th International AVS Symposium & Topical Conferences
    https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882766
    65th International AVS Symposium & Topical Conferences, Nov 2016, Nashville, USA, United States

    مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics]

    جغرافية الموضوع: Nashville, USA, United States

  10. 10
    Conference

    المساهمون: Lin, Qinghuang, Engelmann, Sebastian U.

    المصدر: SPIE Proceedings ; Advanced Etch Technology for Nanopatterning V ; ISSN 0277-786X

  11. 11
  12. 12
    Conference
  13. 13
    Conference
  14. 14
    Conference

    المساهمون: Lin, Qinghuang, Engelmann, Sebastian U., Zhang, Ying

    المصدر: SPIE Proceedings ; Advanced Etch Technology for Nanopatterning IV ; ISSN 0277-786X

  15. 15
  16. 16
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), STMicroelectronics Crolles (ST-CROLLES), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)

    المصدر: 36th Proceedings of International Symposium on Dry Process (DPS)
    https://hal.science/hal-01798092
    36th Proceedings of International Symposium on Dry Process (DPS), Nov 2014, Yokohama, Japan

    مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics]

    جغرافية الموضوع: Yokohama, Japan

    Relation: hal-01798092; https://hal.science/hal-01798092

  17. 17
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)

    المصدر: Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 7th International Workshop ; https://hal.science/hal-01798099 ; Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 7th International Workshop, May 2014, grenoble, France

    مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics]

    جغرافية الموضوع: grenoble, France

  18. 18
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)

    المصدر: 61st International AVS Symposium & Topical Conferences
    https://hal.science/hal-01798215
    61st International AVS Symposium & Topical Conferences, Nov 2014, Baltimore, USA, United States

    مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics]

    جغرافية الموضوع: Baltimore, USA, United States

  19. 19
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)

    المصدر: 61st International AVS Symposium & Topical Conferences
    https://hal.science/hal-01798204
    61st International AVS Symposium & Topical Conferences, Nov 2014, Baltimore, United States

    مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics]

    جغرافية الموضوع: Baltimore, United States

  20. 20
    Conference

    المساهمون: Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)

    المصدر: Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM 2014), 7th International Workshop ; https://hal.science/hal-01798132 ; Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM 2014), 7th International Workshop, May 2014, Grenoble, France

    مصطلحات موضوعية: [PHYS]Physics [physics]

    جغرافية الموضوع: Grenoble, France