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المؤلفون: Francine Solal, Thomas Delhaye, Arnaud LePottier, Virginia Chu, Christian Godet, Hussein Sabbah, João Pedro Conde, Soraya Ababou-Girard
المساهمون: Institut de Physique de Rennes (IPR), Université de Rennes (UR)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), INESC Microsistemas e Nanotecnologias (INESC MN), Instituto Superior Técnico, Universidade Técnica de Lisboa (IST), Institut des Sciences Chimiques de Rennes (ISCR), Université de Rennes (UR)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Rennes (ENSCR)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Université de Rennes 1 (UR1), Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Université de Rennes 1 (UR1), Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Rennes (ENSCR)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes), Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Université de Rennes (UNIV-RENNES)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)
المصدر: Physica Status Solidi
23rd International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors
23rd International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors, 2010, Utrecht, Netherlands. pp.720-723, ⟨10.1002/pssc.200982674⟩مصطلحات موضوعية: Amorphous silicon, Doping, Oxide, Nanotechnology, Condensed Matter Physics, Photochemistry, chemistry.chemical_compound, 34.35.+a, 68.35.bj, 82.80.Pv, 82.80.Ms, chemistry, X-ray photoelectron spectroscopy, Covalent bond, Desorption, Molecule, Reactive-ion etching