يعرض 1 - 1 نتائج من 1 نتيجة بحث عن '"Al2O3/HfO2/SiO2 tri-layer"', وقت الاستعلام: 0.38s تنقيح النتائج
  1. 1
    Comparative Study of Plasma-Enhanced-Atomic-Layer-Deposited Al2O3/HfO2/SiO2 and HfO2/Al2O3/SiO2 Tri-Layers for Ultraviolet Laser Applications

    المؤلفون: Lin Zesheng, Song Chen, Liu Tianbao, Shao Jianda, Zhu Meiping

    مصطلحات موضوعية: plasma-enhanced atomic layer deposition, Al2O3 single-layer thin film, Al2O3/HfO2/SiO2 tri-layer, laser-induced damage threshold, interface defect, interface bonding performance

    الاتاحة: https://doi.org/10.57760/sciencedb.08751

    View record in BASE

    أضف إلى المفضلة
أدوات البحث: أحصل على تغذية RSS – أرسل هذا البحث بالبريد الإلكتروني – حفظ البحث – جدول التنبيهات: لا شيء