يعرض 1 - 2 نتائج من 2 نتيجة بحث عن '"植山 稔正"', وقت الاستعلام: 0.50s تنقيح النتائج
  1. 1
    Academic Journal
    DCシンクロパルスプラズマを用いた最先端絶縁膜エッチングプロセスにおけるフルオロカーボンラジカルの挙動 / Fluorocarbon radical behavior of synchronized dc-imposed pulsed plasmas for advanced dielectric etching processes

    المؤلفون: Hiroki Kondo, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Manabu Iwata, Masaru Hori, Toshinari Ueyama, Yoshinobu Ohya, 堀 勝, 大矢 欣伸, 岩田 学, 植山 稔正, 石川 健治, 竹田 圭吾, 近藤 博基, 関根 誠

    المصدر: JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2017, :1755

    View record in JSTAGE

    أضف إلى المفضلة
  2. 2
    Academic Journal
    DCシンクロパルスプラズマを用いた最先端絶縁膜エッチングプロセスにおける電子の電極間密度分布およびアフターグローでの挙動 / Phase-resolved interelectrode distribution of electron density in afterglow of synchronized dc imposed pulsed plasmas for advance dielectric etching processes

    المؤلفون: Hideo Sugai, Hiroki Kondo, Keigo Takeda, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Manabu Iwata, Masaru Hori, Takayoshi Tsutsumi, Toshinari Ueyama, Yoshinobu Ohya, Yusuke Fukunaga, 堀 勝, 堤 隆嘉, 大矢 欣伸, 岩田 学, 植山 稔正, 石川 健治, 福永 祐介, 竹田 圭吾, 菅井 秀郎, 近藤 博基, 関根 誠

    المصدر: JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2016, :1685

    View record in JSTAGE

    أضف إلى المفضلة
أدوات البحث: أحصل على تغذية RSS – أرسل هذا البحث بالبريد الإلكتروني – حفظ البحث – جدول التنبيهات: لا شيء