المؤلفون: Brinkevici, D.I., Бринкевич, Д.И., Griniuk, E.V., Гринюк, Е.В., Brinkevici, S.D., Бринкевич, С.Д., Prosolovici, V.S., Просолович, В.С., Iankovskii, I.N., Янковский, Ю.Н., Kolos, V.V., Колос, В.В., Zubova, O.A., Зубова, О.А., Lastovskii, S.B., Ластовский, С.Б.

المصدر: Электронная обработка материалов (4) 53-59

مصطلحات موضوعية: негативный фенолформальдегидный фоторезист, кремний, электронноеоблучение, нарушенное полное внутреннее отражение, negative phenol-formaldehyde photoresist, Silicon, electronic irradiation, Attenuated total reflection

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://ibn.idsi.md/vizualizare_articol/211058; urn:issn:00135739

الاتاحة: https://ibn.idsi.md/vizualizare_articol/211058
https://doi.org/10.52577/eom.2024.60.4.53

المؤلفون: Cerneavschii, A., Чернявский, А., Gramovici, L.

المصدر: Conferinţa tehnico-ştiinţifică a studenţilor, masteranzilor şi doctoranzilor (Vol.1)

مصطلحات موضوعية: электрохимия, поры, нанотехнология, маска, фоторезист, движок Unity

وصف الملف: application/pdf

Relation: info:eu-repo/grantAgreement/EC/FP7/17309/EU/Nanoarhitecturi în bază de GaN și matrici tridimensionale din materiale biologice pentru aplicații în microfluidică și inginerie tisulară/20.80009.5007.20; https://ibn.idsi.md/vizualizare_articol/161686

الاتاحة: https://ibn.idsi.md/vizualizare_articol/161686

المؤلفون: Sorokin, Dmytro, Hubar, V. H.

المصدر: Electronic and Acoustic Engineering; Vol. 2 No. 2 (2019); 26 - 29 ; Электронная и Акустическая Инженерия; Том 2 № 2 (2019); 26 - 29 ; Електронна та Акустична Інженерія; Том 2 № 2 (2019); 26 - 29 ; 2617-0965 ; 2524-2725 ; 10.20535/2617-0965.2019.2.2

مصطلحات موضوعية: printed circuit board, photoresist, exposure, control unit, 378.147, печатная плата, фоторезист, экспонирование, блок управления, друкована плата, експонування, блок керування

وصف الملف: application/pdf

Relation: http://feltran.kpi.ua/article/view/163413/165744; http://feltran.kpi.ua/article/view/163413

الاتاحة: http://feltran.kpi.ua/article/view/163413
https://doi.org/10.20535/2617-0965.2019.2.2.163413

المؤلفون: Вабищевич, С. А., Васюков, А. В., Вабищевич, Н. В., Бринкевич, Д. И., Просолович, В. С.

مصطلحات موضوعية: Государственный рубрикатор НТИ - ВИНИТИ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика, Фоторезист, Ионная имплантация, Модификация поверхности, Атомно-силовая микроскопия, Photoresist, Ion implantation, Surface modification, Atomic force microscopy

Relation: Веснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукі; Herald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciences; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки; Серия C, Фундаментальные науки;2018. - № 12; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2018. - № 12. - C. 37-41.; https://elib.psu.by/handle/123456789/22954; 541.183

الاتاحة: https://elib.psu.by/handle/123456789/22954

المؤلفون: Вабищевич, С. А., Вабищевич, Н. В., Бринкевич, Д. И., Харченко, А. А., Лукашевич, М. Г., Просолович, В. С., Бринкевич, С. Д.

مصطلحات موضوعية: Государственный рубрикатор НТИ - ВИНИТИ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика, Фоторезист, Гамма-облучение, Спектры отражения, Показатель преломления, Photoresist, Gamma irradiation, Reflection spectra, Refractive index

Relation: Веснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукі; Herald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciences; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки; Серия C, Фундаментальные науки;2017. - № 4; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2017. - № 4. - C. 35-39.; https://elib.psu.by/handle/123456789/20347; 546.28:621.315.592

الاتاحة: https://elib.psu.by/handle/123456789/20347

المؤلفون: Васюков, А. В., Вабищевич, С. А., Криштопа, В. А.

مصطلحات موضوعية: Государственный рубрикатор НТИ - ВИНИТИ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика, Атомно-силовая микроскопия, Шероховатость, Морфология поверхности, Фоторезист, Гудрон, Нефтяной кокс, Наночастицы, Монокристаллы, Металлы, Atomic force microscope, Surface morphology, Nanoparticle dispersions, Metals

Relation: Веснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукі; Herald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciences; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки; Серия C, Фундаментальные науки;2017. - № 4; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2017. - № 4. - C. 52-56.; https://elib.psu.by/handle/123456789/20344

الاتاحة: https://elib.psu.by/handle/123456789/20344

المؤلفون: Лебедев, В., Котомина, В., Зеленцов, С., Леонов, Е., Сидоренко, К.

مصطلحات موضوعية: ФОТОРЕЗИСТ, УЛУЧШЕНИЕ КАЧЕСТВА ФОТОРЕЗИСТА, ВОДОРОДНЫЕ СВЯЗИ, ДОБАВКИ В ФОТОРЕЗИСТ, ФОТОЛИТОГРАФИЯ, РАЗРЕШАЮЩАЯ СПОСОБНОСТЬ

وصف الملف: text/html

الاتاحة: http://cyberleninka.ru/article/n/vliyanie-mezhmolekulyarnyh-vodorodnyh-svyazey-na-kachestvo-fotorezistnyh-masok
http://cyberleninka.ru/article_covers/15720148.png

المؤلفون: Вабищевич, С. А., Вабищевич, Н. В., Бринкевич, Д. И., Просолович, В. С., Янковский, Ю. Н., Бринкевич, С. Д.

مصطلحات موضوعية: Государственный рубрикатор НТИ - ВИНИТИ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика, физика, фоторезист, гамма-облучение, ионная имплантация, photoresist, gamma-irradiation, ion implantation

Relation: Веснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукі; Herald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciences; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки; Серия C, Фундаментальные науки;2016. - № 12; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2016. - № 12. - C. 30-36.; https://elib.psu.by/handle/123456789/18976; 546.28: 621.315.592

الاتاحة: https://elib.psu.by/handle/123456789/18976

المؤلفون: D. I. Brinkevich, V. S. Prosolovich, Yu. N. Yankovski, S. A. Vabishchevich, N. V. Vabishchevich, V. E. Gaishun

المصدر: Pribory i Metody Izmerenij, Vol 7, Iss 1, Pp 77-84 (2016)

مصطلحات موضوعية: фоторезист, кремний, склерометрия, индентирование, микротвердость, Engineering (General). Civil engineering (General), TA1-2040

Relation: https://pimi.bntu.by/jour/article/view/244; https://doaj.org/toc/2220-9506; https://doaj.org/toc/2414-0473; https://doaj.org/article/69812650f660429796e93375072fa03d

الاتاحة: https://doi.org/10.21122/2220-9506-2016-7-1-7-13
https://doaj.org/article/69812650f660429796e93375072fa03d

المؤلفون: A. A. BARABOSHINA, T. V. SVIRIDOVA, L. S. TSYBULSKAJA, A. I. KOKORIN, D. V. SVIRIDOV, А. А. БАРАБОШИНА, Т. В. СВИРИДОВА, Л. С. ЦЫБУЛЬСКАЯ, А. И. КОКОРИН, Д. В. СВИРИДОВ

المصدر: Doklady of the National Academy of Sciences of Belarus; Том 59, № 4 (2015); 68-71 ; Доклады Национальной академии наук Беларуси; Том 59, № 4 (2015); 68-71 ; 2524-2431 ; 1561-8323 ; undefined

مصطلحات موضوعية: неорганический фоторезист, photolithography, inorganic photoresist, фотолитография

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://doklady.belnauka.by/jour/article/view/124/125; Liu, B. Sub-100 nm nanolithography and pattern transfer on sol-gel-derived TiO2 resist / B. Liu, S.-T. Ho // J. Electrochem. Soc. – 2008. – Vol. 155. – P. P57–P60.; Лазерно-стимулированная модификация свойств оксидов переходных металлов / А. М. Ильин [и др.] // Оптика и спектроскопия. – 1997. – Т. 82. – С. 32–38.; Chudnovskii, F. A. Metal-insulator phase transition in disordered VO2 / F. A. Chudnovskii, G. B. Stefanovich // J. Solid State Chem. – 1992. – Vol. 98. – P. 137–145.; van Zant, P. Microchip fabrication / P. van Zant. – NY, 1997.; Sviridova, T. V. Nano- and microcrystals of molybdenum trioxide and metal-matrix composites on their basis / T. V. Sviridova, L. I. Stepanova, D. V. Sviridov // Molybdenum: Characteristics, Production and Applications / ed. by M. Ortiz [et al.]. – NY, 2012. – P. 147–179.; Livage, J. Sol-gel chemistry of transition metal oxides / J. Livage, M. Henry, C. Sanchez // Progr. Solid State Chem. – 1988. – Vol. 18. – P. 259–341.; Авдеев, В. И. Моделирование активных центров нанесенных катализаторов V2O5/SiO2 и V2O5/TiO2. Теоретический анализ оптических свойств методом DFT / В. И. Авдеев, Г. М. Жидомиров // Журн. структурной химии. – 2005. – Т. 46. – С. 599–612.; https://doklady.belnauka.by/jour/article/view/124; undefined

الاتاحة: https://doklady.belnauka.by/jour/article/view/124

المؤلفون: Вабищевич, С. А., Вабищевич, Н. В., Бринкевич, Д. И., Просолович, В. С., Янковский, Ю. Н.

مصطلحات موضوعية: Физика, Cубмикронная литография, Измерение микротвердости, метод склерометрии, фоторезист-кремний

Relation: Веснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукі; Herald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciences; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки; Серия C, Фундаментальные науки;2015. - № 12; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2015. - № 12. - C. 67-71.; https://elib.psu.by/handle/123456789/15438; 621.315.592: 546.28

الاتاحة: https://elib.psu.by/handle/123456789/15438

المؤلفون: Новосядлий, Степан Петрович, Мельник, Любомир Васильович, Новосядлий, Святослав Володимирович

المصدر: Eastern-European Journal of Enterprise Technologies

مصطلحات موضوعية: plasma chemical etching, deposition, boron phosphorus silicate glass, photoresist, reactor, УДК 621.794.4, плазмохимическое травление, осаждение, боро–фосфоро силикатное стекло, фоторезист, реактор, плазмохімічне травлення, осадження, боро–фосфоро силікатне скло, Indonesia

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://www.neliti.com/publications/306315/implementation-plasma-chemical-etching-in-submicron-technology-wsi-structure

الاتاحة: https://www.neliti.com/publications/306315/implementation-plasma-chemical-etching-in-submicron-technology-wsi-structure

المؤلفون: Купо, А.Н., Побияха, А.С.

مصطلحات موضوعية: фоторезист, экспонирование, моделирование фотохимических реакций

Relation: http://rour.neicon.ru:80/xmlui/bitstream/rour/203894/1/nora.pdf; Купо, А.Н. Компьютерное моделирование процессов лазерного экспонирования фоторезистов / А.Н. Купо, А.С. Побияха // Известия Гомельского государственного университета имени Ф. Скорины. Сер.: Естественные науки. - 2015. - № 3(90). - С. 153-156.; 621.791.7:621.381; https://openrepository.ru/article?id=203894

الاتاحة: https://openrepository.ru/article?id=203894

المؤلفون: БУХАРОВ АЛЕКСАНДР АЛЕКСАНДРОВИЧ, ФРОЛОВ КОНСТАНТИН АЛЕКСАНДРОВИЧ, ШЕСТЕРКИНА АЛЕКСАНДРА АЛЕКСЕЕВНА

مصطلحات موضوعية: МАЛОРАЗМЕРНЫЕ ЭЛЕМЕНТЫ,ОДНОСЛОЙНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ,ПОСЛЕДОВАТЕЛЬНОЕ ДВУКРАТНОЕ ЭКСПОНИРОВАНИЕ,СХЕМА ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОГО ПРОЦЕССА,ФОТОЛИТОГРАФИЯ

وصف الملف: text/html

الاتاحة: http://cyberleninka.ru/article/n/osobennosti-primeneniya-tehnologii-dvukratnogo-eksponirovaniya-odnosloynogo-fotorezista-pri-izgotovlenii-poluprovodnikovyh-iet-i
http://cyberleninka.ru/article_covers/16087262.png

المؤلفون: НОВОСЯДЛИЙ С.П., МЕЛЬНИК Л.В., НОВОСЯДЛИЙ С.В.

مصطلحات موضوعية: ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЕ ТРАВ- ЛЕНИЕ, ОСАЖДЕНИЕ, БОРО-ФОСФОРО СИЛИКАТНОЕ СТЕКЛО, ФОТОРЕЗИСТ, РЕАКТОР

وصف الملف: text/html

الاتاحة: http://cyberleninka.ru/article/n/vprovadzhennya-plazmohimichnogo-travlennya-v-submikronnu-tehnologiyu-struktur-integralnih-shem
http://cyberleninka.ru/article_covers/15966648.png

المؤلفون: Верхогляд, Александр, Завьялова, Марина, Касторский, Леонид, Качкин, Антон, Кокарев, Сергей, Корольков, Виктор, Моисеев, Олег, Полещук, Александр, Шиманский, Руслан

مصطلحات موضوعية: КРУГОВАЯ ЛАЗЕРНАЯ ЗАПИСЫВАЮЩАЯ СИСТЕМА (КЛЗС), ДАТЧИК АВТОМАТИЧЕСКОЙ ФОКУСИРОВКИ, ФОТОРЕЗИСТ, ДИФРАКЦИОННЫЙ ОПТИЧЕСКИЙ ЭЛЕМЕНТ (ДОЭ), CIRCLE LASER WRITING SYSTEM (CLWS), DIFFRACTIVE OPTICAL ELEMENT (DOE)

وصف الملف: text/html

الاتاحة: http://cyberleninka.ru/article/n/krugovaya-lazernaya-zapisyvayuschaya-sistema-dlya-izgotovleniya-doe-na-sfericheskih-poverhnostyah
http://cyberleninka.ru/article_covers/15817002.png

المؤلفون: Вабищевич, С. А., Бринкевич, С. Д., Вабищевич, Н. В., Бринкевич, Д. И., Просолович, В. С., Vabishchevich, S., Brinkevich, S., Vabishchevich, N., Brinkevich, D., Prosolovich, V.

مصطلحات موضوعية: Диазохинонноволачный фоторезист, Y-облучение, Адгезия, Кремний

Relation: Адгезия облученных пленок диазохинонноволачного фоторезиста к монокристаллическому кремнию / С. А. Вабищевич , С. Д. Бринкевич, Н. В. Вабищевича, Д. И. Бринкевич, В. С. Просолович // Химия высоких энергий, 2021, том 55, № 6, с. 461–468; https://elib.psu.by/handle/123456789/28489

الاتاحة: https://elib.psu.by/handle/123456789/28489
https://doi.org/10.31857/S0023119321060152

المصدر: Компьютерная оптика; Vol 32, No 4 ; Computer Optics; Vol 32, No 4 ; 2412-6179 ; 0134-2452

مصطلحات موضوعية: фотонный кристалл, интерференционная литография, гелий-кадмиевый лазер, фоторезист SU-8

وصف الملف: application/pdf

Relation: http://www.computeroptics.smr.ru//article/view/1231/1233; http://www.computeroptics.smr.ru//article/view/1231

الاتاحة: http://www.computeroptics.smr.ru//article/view/1231

المؤلفون: Вабищевич, С. А., Вабищевич, Н. В., Бринкевич, Д. И., Просолович, В. С., Оджаев, В. Б., Янковский, Ю. Н.

مصطلحات موضوعية: Государственный рубрикатор НТИ - ВИНИТИ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Энергетика, Полупроводниковые материалы, фоторезист ФП9120, атомно-силовая микроскопия

Relation: Веснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукі; Herald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciences; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки; Серия C, Фундаментальные науки;2014. - № 12; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. - 2014. - № 12. - C. 69-73.; https://elib.psu.by/handle/123456789/11225; 546.28:621.315.596

الاتاحة: https://elib.psu.by/handle/123456789/11225

المساهمون: Новосад, Андрій Анатолійович

مصطلحات موضوعية: ultraviolet, LED, ультрафіолет, фоторезист

وصف الملف: 63 с.; application/pdf

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______2635::35414377d9d606ac2fb3c12eac727b37
https://ela.kpi.ua/handle/123456789/35184