-
1Academic Journal
المؤلفون: Doan, H.T., Доан, Х.Т., Golosov, D.A., Голосов, Д.A., Djang, D., Джанг, Д., Melinikov, S.N., Мельников, С.Н., Zavadskii, S.M., Завадский, С.M.
المصدر: Электронная обработка материалов 59 (1) 60-69
مصطلحات موضوعية: реактивное магнетронное распыление, тонкие пленки, оксид титана и алюминия, составная мишень, оптическая эмиссионная спектроскопия, напряжение разряда, скорость распыления, элементный состав, reactive magnetron sputtering, thin films, titanium-aluminum oxide, composite target, optical emission spectroscopy, discharge voltage, sputtering rate, Elemental composition
وصف الملف: application/pdf
Relation: https://ibn.idsi.md/vizualizare_articol/175591; urn:issn:00135739
-
2Report
المؤلفون: Ауэзов, Алишер Серикболович
المساهمون: Блейхер, Галина Алексеевна
مصطلحات موضوعية: режим перемещения подложки, магнетронное осаждение, плотность потока осаждаемых частиц, скорость осаждения, скорость распыления, substrate movement mode, magnetron deposition, particle deposition density, deposition rate, sputtering rate, 14.03.02, 621.793.182.02:669.056.9:620.19
وصف الملف: application/pdf
Relation: Ауэзов А. С. Исследование влияния режимов перемещения подложки на свойства металлических покрытий, осаждаемых методом магнетронного распыления : бакалаврская работа / А. С. Ауэзов; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа ядерных технологий (ИЯТШ), Отделение ядерно-топливного цикла (ОЯТЦ); науч. рук. Г. А. Блейхер. — Томск, 2023.; http://earchive.tpu.ru/handle/11683/76091
-
3Report
المؤلفون: Набокова, Ольга Олеговна
المساهمون: Коваль, Тамара Васильевна
مصطلحات موضوعية: диффузия, азотирование, концентрация, коэффициент диффузии, скорость распыления, diffusion, nitriding, concentration, diffusion coefficient, spray rate, 01.04.02, 004.94:669.11:539.2:539.1
وصف الملف: application/pdf
Relation: Набокова О. О. Моделирование формирования ионно-модифицированных слоев железа : магистерская диссертация / О. О. Набокова; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа информационных технологий и робототехники (ИШИТР), Отделение информационных технологий (ОИТ); науч. рук. Т. В. Коваль. — Томск, 2019.; http://earchive.tpu.ru/handle/11683/54008
-
4Academic Journal
المؤلفون: Чичерская, А. Л., Пупышев, А. А., Chicherskaya, A. L., Pupyshev, A. A.
مصطلحات موضوعية: GLOW DISCHARGE, DIRECT CURRENT, SPUTTERING RATE, NICKEL-PHOSPHORUS, CRATER SHAPE, ATOMIC-EMISSION SPECTROMETRY, АТОМНО-ЭМИССИОННАЯ СПЕКТРОМЕТРИЯ, ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД ПОСТОЯННОГО ТОКА, СКОРОСТЬ РАСПЫЛЕНИЯ, ФОРМА КРАТЕРА, ГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ ПОКРЫТИЕ NI-P
وصف الملف: application/pdf
Relation: Аналитика и контроль. 2014. № 1; Чичерская А. Л. Определение характеристик распыления электролитического покрытия Ni-P с использованием атомно-эмиссионного спектрометра с тлеющим разрядом GDS 850 A / А. Л. Чичерская, А. А. Пупышев // Аналитика и контроль. — 2014. — № 1. — С. 50-57.; http://elar.urfu.ru/handle/10995/42677
-
5
المؤلفون: Chicherskaya, A. L., Pupyshev, A. A.
مصطلحات موضوعية: ФОРМА КРАТЕРА, ГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ ПОКРЫТИЕ NI-P, CRATER SHAPE, ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД ПОСТОЯННОГО ТОКА, DIRECT CURRENT, SPUTTERING RATE, NICKEL-PHOSPHORUS, АТОМНО-ЭМИССИОННАЯ СПЕКТРОМЕТРИЯ, GLOW DISCHARGE, ATOMIC-EMISSION SPECTROMETRY, СКОРОСТЬ РАСПЫЛЕНИЯ
وصف الملف: application/pdf
-
6Electronic Resource
المؤلفون: Чичерская, А. Л., Пупышев, А. А., Chicherskaya, A. L., Pupyshev, A. A.
مصطلحات الفهرس: GLOW DISCHARGE, DIRECT CURRENT, SPUTTERING RATE, NICKEL-PHOSPHORUS, CRATER SHAPE, ATOMIC-EMISSION SPECTROMETRY, АТОМНО-ЭМИССИОННАЯ СПЕКТРОМЕТРИЯ, ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД ПОСТОЯННОГО ТОКА, СКОРОСТЬ РАСПЫЛЕНИЯ, ФОРМА КРАТЕРА, ГАЛЬВАНИЧЕСКОЕ ПОКРЫТИЕ NI-P, Article, info:eu-repo/semantics/article, info:eu-repo/semantics/publishedVersion
URL:
http://hdl.handle.net/10995/42677
Аналитика и контроль. 2014. № 1