المؤلفون: Новосядлий, Степан Петрович, Мельник, Любомир Васильович, Новосядлий, Святослав Володимирович

المصدر: Eastern-European Journal of Enterprise Technologies

مصطلحات موضوعية: plasma chemical etching, deposition, boron phosphorus silicate glass, photoresist, reactor, УДК 621.794.4, плазмохимическое травление, осаждение, боро–фосфоро силикатное стекло, фоторезист, реактор, плазмохімічне травлення, осадження, боро–фосфоро силікатне скло, Indonesia

وصف الملف: application/pdf

Relation: https://www.neliti.com/publications/306315/implementation-plasma-chemical-etching-in-submicron-technology-wsi-structure

الاتاحة: https://www.neliti.com/publications/306315/implementation-plasma-chemical-etching-in-submicron-technology-wsi-structure

المصدر: Eastern-European Journal of Enterprise Technologies; Том 3, № 5(75) (2015): Applied physics; 21-24
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 3, № 5(75) (2015): Прикладная физика; 21-24
Східно-Європейський журнал передових технологій; Том 3, № 5(75) (2015): Прикладна фізика; 21-24

مصطلحات موضوعية: плазмохімічне травлення, осадження, боро–фосфоро силікатне скло, фоторезист, реактор, УДК 621.794.4, плазмохимическое травление, осаждение, боро–фосфоро силикатное стекло, plasma chemical etching, deposition, boron phosphorus silicate glass, photoresist, reactor

وصف الملف: application/pdf

URL الوصول: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=scientific_p::c26836fa42266a0c749fcaeeec81c779
http://journals.uran.ua/eejet/article/view/42128